真空科学与技术学报
真空科學與技術學報
진공과학여기술학보
JOURNAL OF VACUUM SCIENCE AND TECHNOLOGY
2012年
1期
6-10
,共5页
牟宗信%臧海蓉%刘冰冰%林曲%丁安邦%王春%董闯
牟宗信%臧海蓉%劉冰冰%林麯%丁安邦%王春%董闖
모종신%장해용%류빙빙%림곡%정안방%왕춘%동틈
氮化硅薄膜%镁合金%磁控溅射%红外光谱%抗腐蚀性
氮化硅薄膜%鎂閤金%磁控濺射%紅外光譜%抗腐蝕性
담화규박막%미합금%자공천사%홍외광보%항부식성
采用中频孪生靶非平衡磁控溅射技术在AZ31镁合金基底上制备出氮化硅薄膜.利用傅里叶变换红外光谱仪、电子探针、X射线衍射仪等研究了氮气流量比率对氮化硅薄膜的成分、微观结构的影响.通过对薄膜力学性能和抗腐蚀性能的检测分析了氮化硅薄膜对AZ31镁合金基底表面改性的作用.结果表明:中频孪生非平衡磁控溅射技术制备的薄膜为非晶态富N氮化硅.随着氮气流量比率的增加,薄膜的沉积速率降低,Si含量减少.在AZ31镁合金基底上制备氮化硅薄膜有效提高了基底的力学性能和抗腐蚀性能,显微硬度得到显著提高,腐蚀电流密度降低了3个数量级,并且薄膜与基底之间的结合力良好.
採用中頻孿生靶非平衡磁控濺射技術在AZ31鎂閤金基底上製備齣氮化硅薄膜.利用傅裏葉變換紅外光譜儀、電子探針、X射線衍射儀等研究瞭氮氣流量比率對氮化硅薄膜的成分、微觀結構的影響.通過對薄膜力學性能和抗腐蝕性能的檢測分析瞭氮化硅薄膜對AZ31鎂閤金基底錶麵改性的作用.結果錶明:中頻孿生非平衡磁控濺射技術製備的薄膜為非晶態富N氮化硅.隨著氮氣流量比率的增加,薄膜的沉積速率降低,Si含量減少.在AZ31鎂閤金基底上製備氮化硅薄膜有效提高瞭基底的力學性能和抗腐蝕性能,顯微硬度得到顯著提高,腐蝕電流密度降低瞭3箇數量級,併且薄膜與基底之間的結閤力良好.
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