电子工业专用设备
電子工業專用設備
전자공업전용설비
EQUIPMENT FOR ELECTRONIC PRODUCTS MANUFACTURING
2003年
1期
17-24
,共8页
化学机械抛光%化学机械平坦化%设备关键技术%市场前景
化學機械拋光%化學機械平坦化%設備關鍵技術%市場前景
화학궤계포광%화학궤계평탄화%설비관건기술%시장전경
概述了CMP系统技术的发展历史、发展趋势以及在IC生产中的重要性,介绍了国外CMP设备主要制造厂家的设备型号和性能及CMP设备市场分布和需求,阐述了CMP系统技术的基础研究、关键技术和国内研究概况.
概述瞭CMP繫統技術的髮展歷史、髮展趨勢以及在IC生產中的重要性,介紹瞭國外CMP設備主要製造廠傢的設備型號和性能及CMP設備市場分佈和需求,闡述瞭CMP繫統技術的基礎研究、關鍵技術和國內研究概況.
개술료CMP계통기술적발전역사、발전추세이급재IC생산중적중요성,개소료국외CMP설비주요제조엄가적설비형호화성능급CMP설비시장분포화수구,천술료CMP계통기술적기출연구、관건기술화국내연구개황.
