微纳电子技术
微納電子技術
미납전자기술
MICRONANOELECTRONIC TECHNOLOGY
2002年
10期
40-44
,共5页
严伟%王肇志%姚汉明%胡松
嚴偉%王肇誌%姚漢明%鬍鬆
엄위%왕조지%요한명%호송
底面对准%灰度查找表%曝光
底麵對準%灰度查找錶%曝光
저면대준%회도사조표%폭광
微电子技术的不断发展,对光刻设备精度的要求越来越高,特别是在一些特殊器件的制作领域,要求基片多次曝光后必须达到较高的套刻精度.目前国内外有多种比较成熟的对准技术来满足这一要求,其中底面对准技术作为非常有效的一种而倍受青睐.根据底面对准曝光基本原理,论述了底面对准系统的设计与实现,分析了该系统各个功能块,并详细地介绍了图像处理技术在底面对准中的应用.实测表明,在底面对准曝光机中,该系统运行状况良好.
微電子技術的不斷髮展,對光刻設備精度的要求越來越高,特彆是在一些特殊器件的製作領域,要求基片多次曝光後必鬚達到較高的套刻精度.目前國內外有多種比較成熟的對準技術來滿足這一要求,其中底麵對準技術作為非常有效的一種而倍受青睞.根據底麵對準曝光基本原理,論述瞭底麵對準繫統的設計與實現,分析瞭該繫統各箇功能塊,併詳細地介紹瞭圖像處理技術在底麵對準中的應用.實測錶明,在底麵對準曝光機中,該繫統運行狀況良好.
미전자기술적불단발전,대광각설비정도적요구월래월고,특별시재일사특수기건적제작영역,요구기편다차폭광후필수체도교고적투각정도.목전국내외유다충비교성숙적대준기술래만족저일요구,기중저면대준기술작위비상유효적일충이배수청래.근거저면대준폭광기본원리,논술료저면대준계통적설계여실현,분석료해계통각개공능괴,병상세지개소료도상처리기술재저면대준중적응용.실측표명,재저면대준폭광궤중,해계통운행상황량호.
