强激光与粒子束
彊激光與粒子束
강격광여입자속
HIGH POWER LASER AND PARTICLEBEAMS
2000年
3期
285-288
,共4页
付雄鹰%王建永%丁俊%刘民才%范正修
付雄鷹%王建永%丁俊%劉民纔%範正脩
부웅응%왕건영%정준%류민재%범정수
激光损伤阈值%反射波前%pick-off反射镜%电子束蒸发%水中抛光
激光損傷閾值%反射波前%pick-off反射鏡%電子束蒸髮%水中拋光
격광손상역치%반사파전%pick-off반사경%전자속증발%수중포광
采用水中抛光技术抛制了90mm×60mm×10mm的K9玻璃基片,表面粗糙度达1nm.在APS1504镀膜机上,摸索了电子束蒸发镀膜的最佳工艺条件,较稳定地在该超光滑玻璃表面上镀制了对波长1054nm、入射角45°、反射率R≥99.5%的反射膜.膜层的抗激光损伤阈值可达26 J/cm2(1054nm,1ns),镀膜后该玻璃基片反射波前可达λ/10(p-v),最终制备了超高阈值pick-off反射镜.
採用水中拋光技術拋製瞭90mm×60mm×10mm的K9玻璃基片,錶麵粗糙度達1nm.在APS1504鍍膜機上,摸索瞭電子束蒸髮鍍膜的最佳工藝條件,較穩定地在該超光滑玻璃錶麵上鍍製瞭對波長1054nm、入射角45°、反射率R≥99.5%的反射膜.膜層的抗激光損傷閾值可達26 J/cm2(1054nm,1ns),鍍膜後該玻璃基片反射波前可達λ/10(p-v),最終製備瞭超高閾值pick-off反射鏡.
채용수중포광기술포제료90mm×60mm×10mm적K9파리기편,표면조조도체1nm.재APS1504도막궤상,모색료전자속증발도막적최가공예조건,교은정지재해초광활파리표면상도제료대파장1054nm、입사각45°、반사솔R≥99.5%적반사막.막층적항격광손상역치가체26 J/cm2(1054nm,1ns),도막후해파리기편반사파전가체λ/10(p-v),최종제비료초고역치pick-off반사경.
