电子器件
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전자기건
JOURNAL OF ELECTRON DEVICES
2004年
4期
658-660
,共3页
沈长圣%杨鸿生%张钦%孙永志%程广山%郑福萍
瀋長聖%楊鴻生%張欽%孫永誌%程廣山%鄭福萍
침장골%양홍생%장흠%손영지%정엄산%정복평
微波等离子体%甲烷偶联%C2烃类
微波等離子體%甲烷偶聯%C2烴類
미파등리자체%갑완우련%C2경류
针对在微波等离子体下甲烷偶联制C2烃类反应随着时间的变化情况,讨论了n(CH4)/n(H2)对积碳的影响,结果表明当n(CH4)/n(H2)为1/4或比例更小时积碳较少.在n(CH4)/n(H2)为1/4时,微波等离子体下甲烷偶联反应持续30 min以上,而且甲烷转化率分布在30～64%之间,C2收率分布在27～64%之间.
針對在微波等離子體下甲烷偶聯製C2烴類反應隨著時間的變化情況,討論瞭n(CH4)/n(H2)對積碳的影響,結果錶明噹n(CH4)/n(H2)為1/4或比例更小時積碳較少.在n(CH4)/n(H2)為1/4時,微波等離子體下甲烷偶聯反應持續30 min以上,而且甲烷轉化率分佈在30～64%之間,C2收率分佈在27～64%之間.
침대재미파등리자체하갑완우련제C2경류반응수착시간적변화정황,토론료n(CH4)/n(H2)대적탄적영향,결과표명당n(CH4)/n(H2)위1/4혹비례경소시적탄교소.재n(CH4)/n(H2)위1/4시,미파등리자체하갑완우련반응지속30 min이상,이차갑완전화솔분포재30～64%지간,C2수솔분포재27～64%지간.
