高电压技术
高電壓技術
고전압기술
HIGH VOLTAGE ENGINEERING
2011年
1期
203-207
,共5页
杨树%张零零%宓东%朱益民%刘爽%郝阳
楊樹%張零零%宓東%硃益民%劉爽%郝暘
양수%장령령%복동%주익민%류상%학양
电晕放电%放电电压%电离区%N2第2正带跃迁谱峰%电子平均速度%电流密度
電暈放電%放電電壓%電離區%N2第2正帶躍遷譜峰%電子平均速度%電流密度
전훈방전%방전전압%전리구%N2제2정대약천보봉%전자평균속도%전류밀도
为了对多针对板正、负电晕放电电离区的微观特性进行分析,采用统计和理论分析的方法对前期利用发射光谱法测量电离区形貌的实验结果进行了研究,得到了高压针电极周围N2第2正带跃迁谱峰光强分布的等光强线曲线方程;电离区按N2第2正带跃迁谱峰的分布可分为内、中、外3层;在确定的电压下,由内到外N2第2正带跃迁谱峰与其等值曲面面积的乘积随着距针极的距离呈小-大-小的变化趋势,而电子的平均速度则呈大-小-大的相反变化趋势;电流密度与N2第2正带跃迁谱峰呈良好的线性关系.上述结论说明利用发射光谱法可研究放电电离区的微观特性,并为有关电离放电的应用提供理论参考.
為瞭對多針對闆正、負電暈放電電離區的微觀特性進行分析,採用統計和理論分析的方法對前期利用髮射光譜法測量電離區形貌的實驗結果進行瞭研究,得到瞭高壓針電極週圍N2第2正帶躍遷譜峰光彊分佈的等光彊線麯線方程;電離區按N2第2正帶躍遷譜峰的分佈可分為內、中、外3層;在確定的電壓下,由內到外N2第2正帶躍遷譜峰與其等值麯麵麵積的乘積隨著距針極的距離呈小-大-小的變化趨勢,而電子的平均速度則呈大-小-大的相反變化趨勢;電流密度與N2第2正帶躍遷譜峰呈良好的線性關繫.上述結論說明利用髮射光譜法可研究放電電離區的微觀特性,併為有關電離放電的應用提供理論參攷.
위료대다침대판정、부전훈방전전리구적미관특성진행분석,채용통계화이론분석적방법대전기이용발사광보법측량전리구형모적실험결과진행료연구,득도료고압침전겁주위N2제2정대약천보봉광강분포적등광강선곡선방정;전리구안N2제2정대약천보봉적분포가분위내、중、외3층;재학정적전압하,유내도외N2제2정대약천보봉여기등치곡면면적적승적수착거침겁적거리정소-대-소적변화추세,이전자적평균속도칙정대-소-대적상반변화추세;전류밀도여N2제2정대약천보봉정량호적선성관계.상술결논설명이용발사광보법가연구방전전리구적미관특성,병위유관전리방전적응용제공이론삼고.
