光学技术
光學技術
광학기술
OPTICAL TECHNOLOGY
2000年
6期
526-528
,共3页
谢惠民%戴福隆%岸本哲%张维
謝惠民%戴福隆%岸本哲%張維
사혜민%대복륭%안본철%장유
电子束刻蚀法%电子束云纹法%高频光栅%变形测量
電子束刻蝕法%電子束雲紋法%高頻光柵%變形測量
전자속각식법%전자속운문법%고빈광책%변형측량
本文应用电子束刻蚀技术并结合真空镀膜技术提出了制作电子束云纹光栅的新方法.首次提出三镀层制作双频电子束云纹光栅的新工艺.所制得的光栅可在两频率下应用电子束云纹法测量物体的变形.同一般光栅相比,这种双频光栅变形量程范围更大.在本研究中,运用电子束刻蚀法并结合真空镀膜技术制作出0.1μm间距(10000线/mm光栅)的电子束云纹光栅.应用所制作的10μm/1μm双频光栅与相对应的电子束参考栅干涉,分别得到对应的电子束云纹场.文中对制栅工艺及方法进行了详细的讨论.
本文應用電子束刻蝕技術併結閤真空鍍膜技術提齣瞭製作電子束雲紋光柵的新方法.首次提齣三鍍層製作雙頻電子束雲紋光柵的新工藝.所製得的光柵可在兩頻率下應用電子束雲紋法測量物體的變形.同一般光柵相比,這種雙頻光柵變形量程範圍更大.在本研究中,運用電子束刻蝕法併結閤真空鍍膜技術製作齣0.1μm間距(10000線/mm光柵)的電子束雲紋光柵.應用所製作的10μm/1μm雙頻光柵與相對應的電子束參攷柵榦涉,分彆得到對應的電子束雲紋場.文中對製柵工藝及方法進行瞭詳細的討論.
본문응용전자속각식기술병결합진공도막기술제출료제작전자속운문광책적신방법.수차제출삼도층제작쌍빈전자속운문광책적신공예.소제득적광책가재량빈솔하응용전자속운문법측량물체적변형.동일반광책상비,저충쌍빈광책변형량정범위경대.재본연구중,운용전자속각식법병결합진공도막기술제작출0.1μm간거(10000선/mm광책)적전자속운문광책.응용소제작적10μm/1μm쌍빈광책여상대응적전자속삼고책간섭,분별득도대응적전자속운문장.문중대제책공예급방법진행료상세적토론.
