SiO2/Si波导应力双折射数值分析
SiO2/Si파도응력쌍절사수치분석
Numerical Analysis for a SiO2/Si Waveguide Stress-Birefringence
  • 万方数据
    半导体学报 반도체학보
    CHINESE JOURNAL OF SEMICONDUCTORS
    2005年 7期 1454-1458 ,共5页

    安俊明%班士良%梁希侠%李健%郜定山%夏君磊%李健光%王红杰%胡雄伟

    안준명%반사량%량희협%리건%고정산%하군뢰%리건광%왕홍걸%호웅위

    SiO2/Si%波导%应力%双折射%数值分析 SiO2/Si%波導%應力%雙摺射%數值分析
    SiO2/Si%파도%응력%쌍절사%수치분석
    采用有限元法对SiO2/Si掩埋光波导制备工艺中的应力变化进行了系统的分析,在此基础上,应用有限差分束传播法(FDBPM)对应力光波导的双折射进行了计算.结果表明上包层的玻璃化过程是SiO2/Si波导形成水平方向和垂直方向应力差的主要原因,相应的应力双折射系数B在10-4量级.进一步的分析表明上包层B,P重掺杂可明显减小波导的双折射系数.
    채용유한원법대SiO2/Si엄매광파도제비공예중적응력변화진행료계통적분석,재차기출상,응용유한차분속전파법(FDBPM)대응력광파도적쌍절사진행료계산.결과표명상포층적파리화과정시SiO2/Si파도형성수평방향화수직방향응력차적주요원인,상응적응력쌍절사계수B재10-4량급.진일보적분석표명상포층B,P중참잡가명현감소파도적쌍절사계수.
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