核聚变与等离子体物理
覈聚變與等離子體物理
핵취변여등리자체물리
NUCLEAR FUSION AND PLASMA PHYSICS
2012年
2期
128-132
,共5页
孙倩%杨莹%赵海涛%郝莹莹%张连珠%赵国明
孫倩%楊瑩%趙海濤%郝瑩瑩%張連珠%趙國明
손천%양형%조해도%학형형%장련주%조국명
N2-Ar射频放电%PIC/MC模型%氮等离子体
N2-Ar射頻放電%PIC/MC模型%氮等離子體
N2-Ar사빈방전%PIC/MC모형%담등리자체
N2-Ar射频放电等离子体广泛应用于微电子工业的刻蚀、氮化物薄膜的制备及金属表面氮化等技术领域.开发了N2-Ar混合气体容性耦合射频放电PIC/MC自洽模型,模型主要描述了e-,N2+,N+,Ar+等主要带电粒子的行为分布.等离子体的碰撞过程分别考虑了带电粒子(e-,N2+,N+,Ar+)与基态中性N2分子和Ar原子的21种碰撞反应过程.模拟结果表明,在纯N2及N2-Ar混合气体容性耦合射频放电中,各种带电粒子的数密度都在等离子体区达到最大值,且氮分子离子为主要粒子；在N2容性耦合射频放电中,加入10％氩气时,N+平均能量有所增加,在射频电极处两种氮离子(N2+,N+)高能粒子所占比例增加.本研究对认识N2-Ar射频放电等离子体过程微观机理具重要意义.
N2-Ar射頻放電等離子體廣汎應用于微電子工業的刻蝕、氮化物薄膜的製備及金屬錶麵氮化等技術領域.開髮瞭N2-Ar混閤氣體容性耦閤射頻放電PIC/MC自洽模型,模型主要描述瞭e-,N2+,N+,Ar+等主要帶電粒子的行為分佈.等離子體的踫撞過程分彆攷慮瞭帶電粒子(e-,N2+,N+,Ar+)與基態中性N2分子和Ar原子的21種踫撞反應過程.模擬結果錶明,在純N2及N2-Ar混閤氣體容性耦閤射頻放電中,各種帶電粒子的數密度都在等離子體區達到最大值,且氮分子離子為主要粒子；在N2容性耦閤射頻放電中,加入10％氬氣時,N+平均能量有所增加,在射頻電極處兩種氮離子(N2+,N+)高能粒子所佔比例增加.本研究對認識N2-Ar射頻放電等離子體過程微觀機理具重要意義.
N2-Ar사빈방전등리자체엄범응용우미전자공업적각식、담화물박막적제비급금속표면담화등기술영역.개발료N2-Ar혼합기체용성우합사빈방전PIC/MC자흡모형,모형주요묘술료e-,N2+,N+,Ar+등주요대전입자적행위분포.등리자체적팽당과정분별고필료대전입자(e-,N2+,N+,Ar+)여기태중성N2분자화Ar원자적21충팽당반응과정.모의결과표명,재순N2급N2-Ar혼합기체용성우합사빈방전중,각충대전입자적수밀도도재등리자체구체도최대치,차담분자리자위주요입자；재N2용성우합사빈방전중,가입10％아기시,N+평균능량유소증가,재사빈전겁처량충담리자(N2+,N+)고능입자소점비례증가.본연구대인식N2-Ar사빈방전등리자체과정미관궤리구중요의의.
