电子科技
電子科技
전자과기
IT AGE
2007年
1期
41-43,47
,共4页
凹凸纹理%法向量插值明暗处理%光亮度插值明暗处理%高度场
凹凸紋理%法嚮量插值明暗處理%光亮度插值明暗處理%高度場
요철문리%법향량삽치명암처리%광량도삽치명암처리%고도장
介绍了Blinn于1978年提出的几何凹凸纹理映射技术(Bump Mapping)的实现原理,通过比较Phongshading(法向量插值明暗处理)和Gouraud shading(光亮度插值明暗处理)方法的不同,说明了Bump Mapping是法向量光亮度插值方法的一种扩展.并且简要介绍了其实现方法,最后给出了利用偏移函数生成凹凸纹理的实例.
介紹瞭Blinn于1978年提齣的幾何凹凸紋理映射技術(Bump Mapping)的實現原理,通過比較Phongshading(法嚮量插值明暗處理)和Gouraud shading(光亮度插值明暗處理)方法的不同,說明瞭Bump Mapping是法嚮量光亮度插值方法的一種擴展.併且簡要介紹瞭其實現方法,最後給齣瞭利用偏移函數生成凹凸紋理的實例.
개소료Blinn우1978년제출적궤하요철문리영사기술(Bump Mapping)적실현원리,통과비교Phongshading(법향량삽치명암처리)화Gouraud shading(광량도삽치명암처리)방법적불동,설명료Bump Mapping시법향량광량도삽치방법적일충확전.병차간요개소료기실현방법,최후급출료이용편이함수생성요철문리적실례.
