应用激光
應用激光
응용격광
APPLIED LASER
2008年
3期
207-210,229
,共5页
193nm%反射膜%误差分析%吸收%散射
193nm%反射膜%誤差分析%吸收%散射
193nm%반사막%오차분석%흡수%산사
分析了膜厚控制误差对反射膜设计曲线的影响,发现高低折射率材料厚度反方向变化时(高折射率膜层厚度增加,低折射率膜层厚度减小),反射膜的反射率变化不明显,设计的膜系结构对这种膜厚变化方式的制造误差宽容.在此基础上制备了193nm反射膜,结果表明退火前光学损耗相对较大,实验结果与理论计算结果存在一定差距,并且散射损耗在总的光学损耗中所占比例很小,而吸收损耗占光学损耗的主要部分,起主导作用.退火后光学损耗明显下降,实验结果与理论计算结果更为接近,193nm反射膜的反射率达98%以上.散射损耗增加至接近吸收损耗的水平,不过在总的光学损耗中仍然占比较小的比例.说明当吸收损耗下降到一定程度时,散射损耗所起的作用也是不可忽视的.
分析瞭膜厚控製誤差對反射膜設計麯線的影響,髮現高低摺射率材料厚度反方嚮變化時(高摺射率膜層厚度增加,低摺射率膜層厚度減小),反射膜的反射率變化不明顯,設計的膜繫結構對這種膜厚變化方式的製造誤差寬容.在此基礎上製備瞭193nm反射膜,結果錶明退火前光學損耗相對較大,實驗結果與理論計算結果存在一定差距,併且散射損耗在總的光學損耗中所佔比例很小,而吸收損耗佔光學損耗的主要部分,起主導作用.退火後光學損耗明顯下降,實驗結果與理論計算結果更為接近,193nm反射膜的反射率達98%以上.散射損耗增加至接近吸收損耗的水平,不過在總的光學損耗中仍然佔比較小的比例.說明噹吸收損耗下降到一定程度時,散射損耗所起的作用也是不可忽視的.
분석료막후공제오차대반사막설계곡선적영향,발현고저절사솔재료후도반방향변화시(고절사솔막층후도증가,저절사솔막층후도감소),반사막적반사솔변화불명현,설계적막계결구대저충막후변화방식적제조오차관용.재차기출상제비료193nm반사막,결과표명퇴화전광학손모상대교대,실험결과여이론계산결과존재일정차거,병차산사손모재총적광학손모중소점비례흔소,이흡수손모점광학손모적주요부분,기주도작용.퇴화후광학손모명현하강,실험결과여이론계산결과경위접근,193nm반사막적반사솔체98%이상.산사손모증가지접근흡수손모적수평,불과재총적광학손모중잉연점비교소적비례.설명당흡수손모하강도일정정도시,산사손모소기적작용야시불가홀시적.
