微细加工技术
微細加工技術
미세가공기술
MICROFABRICATION TECHNOLOGY
2000年
3期
29-34
,共6页
钱建国%章吉良%张明生%郭晓芸%毛海平%倪智平
錢建國%章吉良%張明生%郭曉蕓%毛海平%倪智平
전건국%장길량%장명생%곽효예%모해평%예지평
反应离子刻蚀%聚酰亚胺%微机电系统
反應離子刻蝕%聚酰亞胺%微機電繫統
반응리자각식%취선아알%미궤전계통
主要研究了不同的反应离子刻蚀条件(氧基工作气体、刻蚀功率、工作气压等)下所获得的不同刻蚀效果.当以O2/CHF3作为工作气体时,在一定的工艺条件下实现了高深宽比(深度23μm,深宽比＞7)、侧壁陡直光滑、底面平整光滑的刻蚀效果;同时还观察到随着CHF3浓度的增加,侧壁形状经历了外倾、垂直、内倾的变化规律.利用CF2钝化膜保护模型可很好解释这一现象.
主要研究瞭不同的反應離子刻蝕條件(氧基工作氣體、刻蝕功率、工作氣壓等)下所穫得的不同刻蝕效果.噹以O2/CHF3作為工作氣體時,在一定的工藝條件下實現瞭高深寬比(深度23μm,深寬比＞7)、側壁陡直光滑、底麵平整光滑的刻蝕效果;同時還觀察到隨著CHF3濃度的增加,側壁形狀經歷瞭外傾、垂直、內傾的變化規律.利用CF2鈍化膜保護模型可很好解釋這一現象.
주요연구료불동적반응리자각식조건(양기공작기체、각식공솔、공작기압등)하소획득적불동각식효과.당이O2/CHF3작위공작기체시,재일정적공예조건하실현료고심관비(심도23μm,심관비＞7)、측벽두직광활、저면평정광활적각식효과;동시환관찰도수착CHF3농도적증가,측벽형상경력료외경、수직、내경적변화규률.이용CF2둔화막보호모형가흔호해석저일현상.
