CAJ | 학술논문

在950～1100℃,20MPa,20～120min的工艺条件下,添加厚度均为10μm的Ni+Nb为中间层,对Ti2AlNb与GH4169真空扩散连接工艺进行了研究.利用扫描电镜(SEM)、能谱分析(EDS)和X射线衍射(XRD)对接头截面和断口的成分和相组成进行了分析.结果表明,添加Ni+Nb做中间层能实现Ti2AlNb与GH4169良好的连接.在GH4169与Ti2AlNb之间生成6层反应层,自GH4169侧依次为:Fe-Ni-Cr固溶体,Ni3Nb,Ni6Nb7,残留Nb层、Ti-Nb固溶体、高铌O相.在剪切试验中,接头沿Ni3Nb层与Nb层之间的Ni6Nb7层断裂.在1050℃,20MPa,40min工艺条件下,剪切强度达到最高,为460MPa.
재950～1100℃,20MPa,20～120min적공예조건하,첨가후도균위10μm적Ni+Nb위중간층,대Ti2AlNb여GH4169진공확산련접공예진행료연구.이용소묘전경(SEM)、능보분석(EDS)화X사선연사(XRD)대접두절면화단구적성분화상조성진행료분석.결과표명,첨가Ni+Nb주중간층능실현Ti2AlNb여GH4169량호적련접.재GH4169여Ti2AlNb지간생성6층반응층,자GH4169측의차위:Fe-Ni-Cr고용체,Ni3Nb,Ni6Nb7,잔류Nb층、Ti-Nb고용체、고니O상.재전절시험중,접두연Ni3Nb층여Nb층지간적Ni6Nb7층단렬.재1050℃,20MPa,40min공예조건하,전절강도체도최고,위460MPa.