表面等离子体近场光刻制作二维纳米阵列
표면등리자체근장광각제작이유납미진렬
Two Dimensional Nanoarray Fabricated by Near-Field Lithography Technology Based on Surface Plasmon
  • 万方数据
    微纳电子技术 미납전자기술
    MICRONANOELECTRONIC TECHNOLOGY
    2010年 1期 60-63 ,共4页

    李海军%林文魁%张晓东%王逸群%曾春红%赵德胜%王敏锐%张宝顺

    리해군%림문괴%장효동%왕일군%증춘홍%조덕성%왕민예%장보순

    表面等离子体%近场光刻%纳米孔阵列%二维纳米阵列%金膜 錶麵等離子體%近場光刻%納米孔陣列%二維納米陣列%金膜
    표면등리자체%근장광각%납미공진렬%이유납미진렬%금막
    重点介绍了采用表面等离子体增强效应的近场光刻制作亚微米结构的二维点阵图形的技术.在研究亚波长纳米孔阵列超透射现象基本原理的基础上,应用有限差分时域(FDTD)算法数值模拟了周期性孔阵列的电场强度分布,讨论了纳米孔阵列所激发的表面等离子体激元提高近场光刻分辨率的微观机制.以金膜上的亚波长纳米孔阵列作为掩模版进行了接触式曝光实验,实际制作出了光刻胶的亚波长二维点阵图形,点阵图形的直径约为300 nm,周期约为700 nm.这种新型的微纳加工技术具有应用简单、成本低等特点,在大规模二维纳米点阵的制作方面有一定的应用潜力.
    중점개소료채용표면등리자체증강효응적근장광각제작아미미결구적이유점진도형적기술.재연구아파장납미공진렬초투사현상기본원리적기출상,응용유한차분시역(FDTD)산법수치모의료주기성공진렬적전장강도분포,토론료납미공진렬소격발적표면등리자체격원제고근장광각분변솔적미관궤제.이금막상적아파장납미공진렬작위엄모판진행료접촉식폭광실험,실제제작출료광각효적아파장이유점진도형,점진도형적직경약위300 nm,주기약위700 nm.저충신형적미납가공기술구유응용간단、성본저등특점,재대규모이유납미점진적제작방면유일정적응용잠력.
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