高线密度X射线透射光栅的制作工艺
고선밀도X사선투사광책적제작공예
Fabrication of High-Density Transmission Gratings for X-Ray Diffraction
  • 万方数据
    半导体学报 반도체학보
    CHINESE JOURNAL OF SEMICONDUCTORS
    2007年 12期 2006-2010 ,共5页

    朱效立%马杰%曹磊峰%杨家敏%谢常青%刘明%陈宝钦%牛洁斌%张庆钊%姜骥%赵珉%叶甜春

    주효립%마걸%조뢰봉%양가민%사상청%류명%진보흠%우길빈%장경쇠%강기%조민%협첨춘

    电子束光刻%透射光栅%X射线光刻%X射线衍射光学元件 電子束光刻%透射光柵%X射線光刻%X射線衍射光學元件
    전자속광각%투사광책%X사선광각%X사선연사광학원건
    采用电子束光刻、X射线光刻和微电镀技术,成功制作了面积为10mm×0.5 mm,周期为500nm,占空比为1∶1,金吸收体厚度为430nm的可用于X射线衍射的大面积透射光栅.首先利用电子束光刻和微电镀技术制备基于镂空薄膜结构的X射线光刻掩模,然后利用X射线光刻经济、高效地复制X射线透射光栅.整个工艺流程分别利用了电子束光刻分辨率高和X射线光刻效率高的优点,并且可以得到剖面陡直的纳米级光栅线条.最后,测量了制作出的X射线透射光栅对波长为11nm同步辐射光的衍射峰,实验结果表明该光栅具有良好的衍射特性.
    채용전자속광각、X사선광각화미전도기술,성공제작료면적위10mm×0.5 mm,주기위500nm,점공비위1∶1,금흡수체후도위430nm적가용우X사선연사적대면적투사광책.수선이용전자속광각화미전도기술제비기우루공박막결구적X사선광각엄모,연후이용X사선광각경제、고효지복제X사선투사광책.정개공예류정분별이용료전자속광각분변솔고화X사선광각효솔고적우점,병차가이득도부면두직적납미급광책선조.최후,측량료제작출적X사선투사광책대파장위11nm동보복사광적연사봉,실험결과표명해광책구유량호적연사특성.
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