低温物理学报
低溫物理學報
저온물이학보
CHINESE JOURNAL OF LOW TEMPERATURE PHYSICS
2007年
3期
218-220
,共3页
张华%刘慧舟%杨坚%金薇%杨玉卫%古宏伟
張華%劉慧舟%楊堅%金薇%楊玉衛%古宏偉
장화%류혜주%양견%금미%양옥위%고굉위
反应溅射%连续沉积%CeO2隔离层%NiW衬底
反應濺射%連續沉積%CeO2隔離層%NiW襯底
반응천사%련속침적%CeO2격리층%NiW츤저
用带有反应溅射装置的走带系统在立方织构的Ni-5% W衬底上连续制备了长10 cm的CeO2隔离层.为避免金属衬底氧化,以H2O作为反应气体.论文主要研究了衬底温度、走带速率对CeO2隔离层外延生长的影响.用X射线θ～2θ扫描,ψ扫描对薄膜的取向和织构进行表征.结果显示在温度650 ℃,走带速度2.5 mm/s的条件下,连续制备的CeO2隔离层有效地继承并改善了基底的织构,平均平面内ψ扫描半高宽为6.18°,扫描电镜(SEM)观察表明薄膜表面致密,且无裂纹生成.
用帶有反應濺射裝置的走帶繫統在立方織構的Ni-5% W襯底上連續製備瞭長10 cm的CeO2隔離層.為避免金屬襯底氧化,以H2O作為反應氣體.論文主要研究瞭襯底溫度、走帶速率對CeO2隔離層外延生長的影響.用X射線θ～2θ掃描,ψ掃描對薄膜的取嚮和織構進行錶徵.結果顯示在溫度650 ℃,走帶速度2.5 mm/s的條件下,連續製備的CeO2隔離層有效地繼承併改善瞭基底的織構,平均平麵內ψ掃描半高寬為6.18°,掃描電鏡(SEM)觀察錶明薄膜錶麵緻密,且無裂紋生成.
용대유반응천사장치적주대계통재립방직구적Ni-5% W츤저상련속제비료장10 cm적CeO2격리층.위피면금속츤저양화,이H2O작위반응기체.논문주요연구료츤저온도、주대속솔대CeO2격리층외연생장적영향.용X사선θ～2θ소묘,ψ소묘대박막적취향화직구진행표정.결과현시재온도650 ℃,주대속도2.5 mm/s적조건하,련속제비적CeO2격리층유효지계승병개선료기저적직구,평균평면내ψ소묘반고관위6.18°,소묘전경(SEM)관찰표명박막표면치밀,차무렬문생성.
