硅酸盐通报
硅痠鹽通報
규산염통보
BULLETIN OF THE CHINESE CERAMIC SOCIETY
2007年
1期
38-42,83
,共6页
赵文俞%张清杰%官建国%唐新峰
趙文俞%張清傑%官建國%唐新峰
조문유%장청걸%관건국%당신봉
Fe/SiO2核-壳结构%纳米复合粒子%表面化学%电子结构%XPS
Fe/SiO2覈-殼結構%納米複閤粒子%錶麵化學%電子結構%XPS
Fe/SiO2핵-각결구%납미복합입자%표면화학%전자결구%XPS
采用XPS技术研究了Fe/SiO2核壳复合粒子的表面化学成分和电子结构.结果表明,表面化学成分仅由Si和O元素组成,表面Si存在4种电子结构,表面O存在5种电子结构.表面硅4种电子结构的Si2p电子结合能及归属为:102.91 eV (51.18%)为Q4硅[Si(OSi)4],102.15 eV (23.23%)为Q3硅[Si(OSi)3OH],103.98 eV (18.70%)为Q2硅[Si(OSi)2(OH)2],101.35 eV (6.89%)为Q1硅[Si(OSi)(OH)3];表面氧5种电子结构的O1s电子结合能及归属为:532.85 eV(52.07%)为Q4硅基团中的氧,531.80 eV(19.93%)为Q3硅基团中的氧,533.90 eV (17.09%)为Q2硅基团中的氧,534.75 eV (7.65%)为Q1硅基团中的氧,530.55 eV (3.26%)为与金属铁核相互作用的氧.531.80和530.55 eV的氧原子数(19.93%+3.26%=23.19%)与102.15 eV的硅原子数(23.23%)非常相近,这不仅表明与金属铁核相互作用的表面氧为Q3硅基团中的氧,而且说明表面氧与金属铁核相互作用后O1s电子结合能会因为Fe给电子能力较大而降低.
採用XPS技術研究瞭Fe/SiO2覈殼複閤粒子的錶麵化學成分和電子結構.結果錶明,錶麵化學成分僅由Si和O元素組成,錶麵Si存在4種電子結構,錶麵O存在5種電子結構.錶麵硅4種電子結構的Si2p電子結閤能及歸屬為:102.91 eV (51.18%)為Q4硅[Si(OSi)4],102.15 eV (23.23%)為Q3硅[Si(OSi)3OH],103.98 eV (18.70%)為Q2硅[Si(OSi)2(OH)2],101.35 eV (6.89%)為Q1硅[Si(OSi)(OH)3];錶麵氧5種電子結構的O1s電子結閤能及歸屬為:532.85 eV(52.07%)為Q4硅基糰中的氧,531.80 eV(19.93%)為Q3硅基糰中的氧,533.90 eV (17.09%)為Q2硅基糰中的氧,534.75 eV (7.65%)為Q1硅基糰中的氧,530.55 eV (3.26%)為與金屬鐵覈相互作用的氧.531.80和530.55 eV的氧原子數(19.93%+3.26%=23.19%)與102.15 eV的硅原子數(23.23%)非常相近,這不僅錶明與金屬鐵覈相互作用的錶麵氧為Q3硅基糰中的氧,而且說明錶麵氧與金屬鐵覈相互作用後O1s電子結閤能會因為Fe給電子能力較大而降低.
채용XPS기술연구료Fe/SiO2핵각복합입자적표면화학성분화전자결구.결과표명,표면화학성분부유Si화O원소조성,표면Si존재4충전자결구,표면O존재5충전자결구.표면규4충전자결구적Si2p전자결합능급귀속위:102.91 eV (51.18%)위Q4규[Si(OSi)4],102.15 eV (23.23%)위Q3규[Si(OSi)3OH],103.98 eV (18.70%)위Q2규[Si(OSi)2(OH)2],101.35 eV (6.89%)위Q1규[Si(OSi)(OH)3];표면양5충전자결구적O1s전자결합능급귀속위:532.85 eV(52.07%)위Q4규기단중적양,531.80 eV(19.93%)위Q3규기단중적양,533.90 eV (17.09%)위Q2규기단중적양,534.75 eV (7.65%)위Q1규기단중적양,530.55 eV (3.26%)위여금속철핵상호작용적양.531.80화530.55 eV적양원자수(19.93%+3.26%=23.19%)여102.15 eV적규원자수(23.23%)비상상근,저불부표명여금속철핵상호작용적표면양위Q3규기단중적양,이차설명표면양여금속철핵상호작용후O1s전자결합능회인위Fe급전자능력교대이강저.
