真空科学与技术学报
真空科學與技術學報
진공과학여기술학보
JOURNAL OF VACUUM SCIENCE AND TECHNOLOGY
2005年
4期
249-251
,共3页
碳纳米管%化学气相沉积法%金属基底%场发射
碳納米管%化學氣相沉積法%金屬基底%場髮射
탄납미관%화학기상침적법%금속기저%장발사
在金属基底上,以铁为催化剂,硅做过镀层,乙烯为源气体,通过普通的化学气相沉积方法生长出垂直基底排列的碳纳米管(CNT)阵列.扫描电子显微镜和透射电镜观察表明,生长的CNT具有阵列形貌和多缺陷的结构.对CNT阵列的场发射性质进行了测量,在10 μA/cm2时不锈钢和镍基底上的开启电场分别为1.25 V/μm 和1.57 V/μm.
在金屬基底上,以鐵為催化劑,硅做過鍍層,乙烯為源氣體,通過普通的化學氣相沉積方法生長齣垂直基底排列的碳納米管(CNT)陣列.掃描電子顯微鏡和透射電鏡觀察錶明,生長的CNT具有陣列形貌和多缺陷的結構.對CNT陣列的場髮射性質進行瞭測量,在10 μA/cm2時不鏽鋼和鎳基底上的開啟電場分彆為1.25 V/μm 和1.57 V/μm.
재금속기저상,이철위최화제,규주과도층,을희위원기체,통과보통적화학기상침적방법생장출수직기저배렬적탄납미관(CNT)진렬.소묘전자현미경화투사전경관찰표명,생장적CNT구유진렬형모화다결함적결구.대CNT진렬적장발사성질진행료측량,재10 μA/cm2시불수강화얼기저상적개계전장분별위1.25 V/μm 화1.57 V/μm.
