CAJ | 학술논문

报道了硅基有机微腔的电致发光(EL).该微腔由上半透明金属膜、中心有源多层膜和多孔硅分布Bragg反射镜(PS-DBR)组成.半透明金属膜由Ag(20nm)构成,充当发光器件的负电极和微腔的上反射镜.有源多层膜由Al (1 nm) / LiF(0.5 nm) /Alq3/Alq3:DCJTB/NPB/CuPc/ITO/SiO2组成,其中的Al/LiF为电子注入层,ITO为正电极,SiO2为使正、负电极电隔离的介质层.该PS-DBR是采用设备简单、成本低廉且非常省时的电化学腐蚀法用单晶Si来制备的;该PS-DBR的反射谱的高反射区(阻止带)宽160 nm且其反射率可达99%.此硅基有机多层膜的反射谱图中出现了标志此结构为微腔的共振腔膜.被测样品EL谱的半高宽可由无微腔的70 nm窄化为有微腔时的12 nm,且为单峰发射,非共振模得到有效抑制; 与非微腔器件相比,该微腔在谐振波长处EL的强度增强了4倍; 对微腔器件的电流-亮度-电压特性以及影响器件寿命的因素也进行了讨论.制作有机微腔并提高其色纯性的方法可能是实现全硅基有机光子器件或光电子器件集成较有效的一种新途径.
보도료규기유궤미강적전치발광(EL).해미강유상반투명금속막、중심유원다층막화다공규분포Bragg반사경(PS-DBR)조성.반투명금속막유Ag(20nm)구성,충당발광기건적부전겁화미강적상반사경.유원다층막유Al (1 nm) / LiF(0.5 nm) /Alq3/Alq3:DCJTB/NPB/CuPc/ITO/SiO2조성,기중적Al/LiF위전자주입층,ITO위정전겁,SiO2위사정、부전겁전격리적개질층.해PS-DBR시채용설비간단、성본저렴차비상성시적전화학부식법용단정Si래제비적;해PS-DBR적반사보적고반사구(조지대)관160 nm차기반사솔가체99%.차규기유궤다층막적반사보도중출현료표지차결구위미강적공진강막.피측양품EL보적반고관가유무미강적70 nm착화위유미강시적12 nm,차위단봉발사,비공진모득도유효억제; 여비미강기건상비,해미강재해진파장처EL적강도증강료4배; 대미강기건적전류-량도-전압특성이급영향기건수명적인소야진행료토론.제작유궤미강병제고기색순성적방법가능시실현전규기유궤광자기건혹광전자기건집성교유효적일충신도경.