光谱实验室
光譜實驗室
광보실험실
CHINESE JOURNAL OF SPECTROSCOPY LABORATORY
1999年
3期
298-301
,共4页
方国春%曹瑰华%邓世君%张玉清%张华山
方國春%曹瑰華%鄧世君%張玉清%張華山
방국춘%조괴화%산세군%장옥청%장화산
3%5-二溴-4-氨基苯基荧光酮(DBAPF)%荧光熄灭法%微量锆%铝合金
3%5-二溴-4-氨基苯基熒光酮(DBAPF)%熒光熄滅法%微量鋯%鋁閤金
3%5-이추-4-안기분기형광동(DBAPF)%형광식멸법%미량고%려합금
本文研究在阳离子表面活性剂CTMAB存在下,3,5-二溴-4-氨基苯基荧光酮(DBAPF)与锆形成络合物荧光熄灭法测定微量锆的实验条件.在pH=6.10的HAc-NaAc缓冲溶液中,当激发波长λex=521nm,荧光发射波长λem=548nm时,锆含量在0-8.0×10-6mol/L(0-720μg/L)范围内与体系的荧光熄灭程度成线性关系,检出限为9.1μg/L.试验了10多种离子的干扰情况,并应用于分析铝合金中微量锆的测定,结果满意.
本文研究在暘離子錶麵活性劑CTMAB存在下,3,5-二溴-4-氨基苯基熒光酮(DBAPF)與鋯形成絡閤物熒光熄滅法測定微量鋯的實驗條件.在pH=6.10的HAc-NaAc緩遲溶液中,噹激髮波長λex=521nm,熒光髮射波長λem=548nm時,鋯含量在0-8.0×10-6mol/L(0-720μg/L)範圍內與體繫的熒光熄滅程度成線性關繫,檢齣限為9.1μg/L.試驗瞭10多種離子的榦擾情況,併應用于分析鋁閤金中微量鋯的測定,結果滿意.
본문연구재양리자표면활성제CTMAB존재하,3,5-이추-4-안기분기형광동(DBAPF)여고형성락합물형광식멸법측정미량고적실험조건.재pH=6.10적HAc-NaAc완충용액중,당격발파장λex=521nm,형광발사파장λem=548nm시,고함량재0-8.0×10-6mol/L(0-720μg/L)범위내여체계적형광식멸정도성선성관계,검출한위9.1μg/L.시험료10다충리자적간우정황,병응용우분석려합금중미량고적측정,결과만의.
