真空科学与技术学报
真空科學與技術學報
진공과학여기술학보
JOURNAL OF VACUUM SCIENCE AND TECHNOLOGY
2011年
3期
283-286
,共4页
Ag2O薄膜%射频磁控溅射%X射线衍射%微结构
Ag2O薄膜%射頻磁控濺射%X射線衍射%微結構
Ag2O박막%사빈자공천사%X사선연사%미결구
利用射频磁控溅射技术,通过调节溅射功率(P)在200℃、氧氩比为2:3条件下在玻璃衬底上制备了一系列氧化银(Ag2O)薄膜.利用X射线衍射谱和扫描电子显微镜重点研究了P对Ag2O薄膜微结构的影响.研究结果表明Ag2O薄膜具有(111)择优取向,这可能归结于(111)面的表面自由能最低.随着P从120W增大到240W,Ag2O薄膜(111)方向的平均晶粒尺寸从22.92nm增大到27.96nm,薄膜的表面结构呈现了从均匀、致密的表面结构向疏松、多孔洞的表面结构的演变.Ag2O(111)衍射峰的2θ角与标准值偏差(2θshift)随P的增大先减小后增大,(111)衍射峰峰位向2θ增大的方向发生了明显的移动.根据量子尺寸效应,薄膜的应力与晶粒尺寸呈反比关系,因此薄膜的应力随P的增大先减小后增大.P=240 W时薄膜的应力最小.从应力的角度,这基本可以合理解释P=210 W时制备的Ag2O薄膜的结晶质量最好,尽管与实验结果有些差异.
利用射頻磁控濺射技術,通過調節濺射功率(P)在200℃、氧氬比為2:3條件下在玻璃襯底上製備瞭一繫列氧化銀(Ag2O)薄膜.利用X射線衍射譜和掃描電子顯微鏡重點研究瞭P對Ag2O薄膜微結構的影響.研究結果錶明Ag2O薄膜具有(111)擇優取嚮,這可能歸結于(111)麵的錶麵自由能最低.隨著P從120W增大到240W,Ag2O薄膜(111)方嚮的平均晶粒呎吋從22.92nm增大到27.96nm,薄膜的錶麵結構呈現瞭從均勻、緻密的錶麵結構嚮疏鬆、多孔洞的錶麵結構的縯變.Ag2O(111)衍射峰的2θ角與標準值偏差(2θshift)隨P的增大先減小後增大,(111)衍射峰峰位嚮2θ增大的方嚮髮生瞭明顯的移動.根據量子呎吋效應,薄膜的應力與晶粒呎吋呈反比關繫,因此薄膜的應力隨P的增大先減小後增大.P=240 W時薄膜的應力最小.從應力的角度,這基本可以閤理解釋P=210 W時製備的Ag2O薄膜的結晶質量最好,儘管與實驗結果有些差異.
이용사빈자공천사기술,통과조절천사공솔(P)재200℃、양아비위2:3조건하재파리츤저상제비료일계렬양화은(Ag2O)박막.이용X사선연사보화소묘전자현미경중점연구료P대Ag2O박막미결구적영향.연구결과표명Ag2O박막구유(111)택우취향,저가능귀결우(111)면적표면자유능최저.수착P종120W증대도240W,Ag2O박막(111)방향적평균정립척촌종22.92nm증대도27.96nm,박막적표면결구정현료종균균、치밀적표면결구향소송、다공동적표면결구적연변.Ag2O(111)연사봉적2θ각여표준치편차(2θshift)수P적증대선감소후증대,(111)연사봉봉위향2θ증대적방향발생료명현적이동.근거양자척촌효응,박막적응력여정립척촌정반비관계,인차박막적응력수P적증대선감소후증대.P=240 W시박막적응력최소.종응력적각도,저기본가이합리해석P=210 W시제비적Ag2O박막적결정질량최호,진관여실험결과유사차이.
