Zr/Nb薄膜材料的制备及界面结构研究
Zr/Nb박막재료적제비급계면결구연구
Growth and Interface Structures of Zr/Nb Films and Si(110)Substrate
  • 万方数据
    真空科学与技术学报 진공과학여기술학보
    JOURNAL OF VACUUM SCIENCE AND TECHNOLOGY
    2011年 2期 134-137 ,共4页

    姚文清%张立武%牟豪杰%张川%严谨%朱永法%杨江荣%刘柯钊%鲜晓斌

    요문청%장립무%모호걸%장천%엄근%주영법%양강영%류가쇠%선효빈

    Zr/Nb/Si薄膜%磁控溅射法%界面%扫描电镜%X射线衍射%俄歇电子能谱%X射线光电子能谱 Zr/Nb/Si薄膜%磁控濺射法%界麵%掃描電鏡%X射線衍射%俄歇電子能譜%X射線光電子能譜
    Zr/Nb/Si박막%자공천사법%계면%소묘전경%X사선연사%아헐전자능보%X사선광전자능보
    通过直流磁控溅射法在单晶Si(100)基底上制备了Zr/Nb/Si薄膜材料.X射线衍射(XRD)研究表明Zr薄膜以多晶形式存在,而Nb薄膜则形成了(110)晶面择优生长.薄膜中Zr和Nb晶粒大小分别为14,6nm.扫描电镜研究表明形成的薄膜表面平整光滑,没有微裂纹存在.扫描俄歇电子能谱及X射线光电子能谱的研究表明,Zr/Nb/Si薄膜样品具有清晰的界面结构.在薄膜表面形成了致密的氧化层物种,而在膜层内部少量氧则以吸附态形式存在.
    통과직류자공천사법재단정Si(100)기저상제비료Zr/Nb/Si박막재료.X사선연사(XRD)연구표명Zr박막이다정형식존재,이Nb박막칙형성료(110)정면택우생장.박막중Zr화Nb정립대소분별위14,6nm.소묘전경연구표명형성적박막표면평정광활,몰유미렬문존재.소묘아헐전자능보급X사선광전자능보적연구표명,Zr/Nb/Si박막양품구유청석적계면결구.재박막표면형성료치밀적양화층물충,이재막층내부소량양칙이흡부태형식존재.
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