材料工程
材料工程
재료공정
JOURNAL OF MATERIALS ENGINEERING
2008年
3期
32-35
,共4页
磁控溅射%金属膜%碳化硅%X射线衍射仪
磁控濺射%金屬膜%碳化硅%X射線衍射儀
자공천사%금속막%탄화규%X사선연사의
采用直流磁控溅射方法,在SiC颗粒表面成功地沉积了金属铜膜.利用场发射扫描电子显微镜(FESEM)、能谱仪(EDS)和电感耦合等离子体发射光谱仪(ICP-AES)等测试仪器对其表面形貌和组份进行了表征.重点讨论了不同的沉积条件对薄膜结晶的影响,并用X射线衍射仪(XRD)对其进行了表征.结果表明,溅射镀膜时,通过控制SiC颗粒的运动方式,可以在其表面镀上均匀、连续和致密的金属膜.溅射时间越长或溅射功率越大或温度越高,都有利于薄膜结晶.
採用直流磁控濺射方法,在SiC顆粒錶麵成功地沉積瞭金屬銅膜.利用場髮射掃描電子顯微鏡(FESEM)、能譜儀(EDS)和電感耦閤等離子體髮射光譜儀(ICP-AES)等測試儀器對其錶麵形貌和組份進行瞭錶徵.重點討論瞭不同的沉積條件對薄膜結晶的影響,併用X射線衍射儀(XRD)對其進行瞭錶徵.結果錶明,濺射鍍膜時,通過控製SiC顆粒的運動方式,可以在其錶麵鍍上均勻、連續和緻密的金屬膜.濺射時間越長或濺射功率越大或溫度越高,都有利于薄膜結晶.
채용직류자공천사방법,재SiC과립표면성공지침적료금속동막.이용장발사소묘전자현미경(FESEM)、능보의(EDS)화전감우합등리자체발사광보의(ICP-AES)등측시의기대기표면형모화조빈진행료표정.중점토론료불동적침적조건대박막결정적영향,병용X사선연사의(XRD)대기진행료표정.결과표명,천사도막시,통과공제SiC과립적운동방식,가이재기표면도상균균、련속화치밀적금속막.천사시간월장혹천사공솔월대혹온도월고,도유리우박막결정.
