电化学方法制备Si阵列微孔的工艺研究
전화학방법제비Si진렬미공적공예연구
Research on Fabrication Technology of Micro-pore Array in Silicon Using Electro-chemical Etching
  • 万方数据
    原子核物理评论 원자핵물리평론
    Nuclear Physics Review
    2008年 3期 277-281 ,共5页

    薛智浩%孙友梅%常海龙%刘杰%侯明东%姚会军%莫丹%陈艳峰

    설지호%손우매%상해룡%류걸%후명동%요회군%막단%진염봉

    各向异性蚀刻%微孔阵列%电化学蚀刻 各嚮異性蝕刻%微孔陣列%電化學蝕刻
    각향이성식각%미공진렬%전화학식각
    对用电化学方法制备Si大孔阵列管坑工艺进行了初步探索. 通过对Si在KOH溶液中各向异性湿法蚀刻和在HF酸溶液中的电化学蚀刻过程中各种参数的摸索,确定在室温下制备大孔阵列的最佳配比浓度,蚀刻出符合要求的管坑阵列,为进一步制备结构化闪烁屏奠定了实验基础.
    대용전화학방법제비Si대공진렬관갱공예진행료초보탐색. 통과대Si재KOH용액중각향이성습법식각화재HF산용액중적전화학식각과정중각충삼수적모색,학정재실온하제비대공진렬적최가배비농도,식각출부합요구적관갱진렬,위진일보제비결구화섬삭병전정료실험기출.
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