应用激光
應用激光
응용격광
APPLIED LASER
2005年
5期
325-326,338
,共3页
激光干涉光刻%波前分割%光刻技术%微细加工
激光榦涉光刻%波前分割%光刻技術%微細加工
격광간섭광각%파전분할%광각기술%미세가공
光学光刻技术在微细加工和集成电路(IC)制造中一直是主流技术.随着IC集成度的提高,要求越来越高的光刻分辨力,但光学光刻的分辨极限受光刻物镜数值孔径(NA)和曝光波长(λ)的限制.激光干涉光刻技术具有高分辨、大视场、无畸变、长焦深等特点,其分辨极限为λ/4,在微细加工、大屏幕显示器、微电子和光电子器件、亚波长光栅、光子晶体和纳米图形制造等领域有广阔的应用前景.阐述了激光干涉光刻技术的基本原理.提出了一种采用梯形棱镜作为波前分割元件的激光干涉光刻方法.建立了相应的曝光系统,该系统可用于双光束、三光束、四光束和五光束等多光束和多曝光干涉光刻.给出了具有点尺寸约220nm的周期图形阵列的实验结果.
光學光刻技術在微細加工和集成電路(IC)製造中一直是主流技術.隨著IC集成度的提高,要求越來越高的光刻分辨力,但光學光刻的分辨極限受光刻物鏡數值孔徑(NA)和曝光波長(λ)的限製.激光榦涉光刻技術具有高分辨、大視場、無畸變、長焦深等特點,其分辨極限為λ/4,在微細加工、大屏幕顯示器、微電子和光電子器件、亞波長光柵、光子晶體和納米圖形製造等領域有廣闊的應用前景.闡述瞭激光榦涉光刻技術的基本原理.提齣瞭一種採用梯形稜鏡作為波前分割元件的激光榦涉光刻方法.建立瞭相應的曝光繫統,該繫統可用于雙光束、三光束、四光束和五光束等多光束和多曝光榦涉光刻.給齣瞭具有點呎吋約220nm的週期圖形陣列的實驗結果.
광학광각기술재미세가공화집성전로(IC)제조중일직시주류기술.수착IC집성도적제고,요구월래월고적광각분변력,단광학광각적분변겁한수광각물경수치공경(NA)화폭광파장(λ)적한제.격광간섭광각기술구유고분변、대시장、무기변、장초심등특점,기분변겁한위λ/4,재미세가공、대병막현시기、미전자화광전자기건、아파장광책、광자정체화납미도형제조등영역유엄활적응용전경.천술료격광간섭광각기술적기본원리.제출료일충채용제형릉경작위파전분할원건적격광간섭광각방법.건립료상응적폭광계통,해계통가용우쌍광속、삼광속、사광속화오광속등다광속화다폭광간섭광각.급출료구유점척촌약220nm적주기도형진렬적실험결과.
