稀有金属
稀有金屬
희유금속
CHINESE JOURNAL OF RARE METALS
2009年
6期
874-878
,共5页
郭存霞%王月娟%金炜阳%罗孟飞%鲁继青
郭存霞%王月娟%金煒暘%囉孟飛%魯繼青
곽존하%왕월연%금위양%라맹비%로계청
高比表面%纳米%二氧化铈
高比錶麵%納米%二氧化鈰
고비표면%납미%이양화시
high specific surface area%nano-particle%ceria
采用模板法制备高比表面积纳米CeO_2. 详细考察了铈盐和NaOH滴加速度、晶化时间和温度、铈盐种类、表面活性剂用量等对CeO_2比表面、晶粒尺寸的影响. 结果表明, 当CeCl_3加入速度=2.5 ml·min~(-1)、 NaOH加入速度=3 ml·min-1、晶化温度=90 ℃、晶化时间=24 h、 CeCl3∶ C_(12)H_(25)SO_4Na∶ NaOH∶ H2O=1∶ 2.7∶ 7.3∶ 1100(摩尔比)、焙烧温度=200 ℃时, CeO_2的比表面积和晶粒尺寸分别为457 m~2·g~(-1)和2.0 nm. 这种高比表面纳米CeO_2与常规CeO_2相比, 具有独特的物理、化学性质, 有望成为一种应用广泛的新型材料.
採用模闆法製備高比錶麵積納米CeO_2. 詳細攷察瞭鈰鹽和NaOH滴加速度、晶化時間和溫度、鈰鹽種類、錶麵活性劑用量等對CeO_2比錶麵、晶粒呎吋的影響. 結果錶明, 噹CeCl_3加入速度=2.5 ml·min~(-1)、 NaOH加入速度=3 ml·min-1、晶化溫度=90 ℃、晶化時間=24 h、 CeCl3∶ C_(12)H_(25)SO_4Na∶ NaOH∶ H2O=1∶ 2.7∶ 7.3∶ 1100(摩爾比)、焙燒溫度=200 ℃時, CeO_2的比錶麵積和晶粒呎吋分彆為457 m~2·g~(-1)和2.0 nm. 這種高比錶麵納米CeO_2與常規CeO_2相比, 具有獨特的物理、化學性質, 有望成為一種應用廣汎的新型材料.
채용모판법제비고비표면적납미CeO_2. 상세고찰료시염화NaOH적가속도、정화시간화온도、시염충류、표면활성제용량등대CeO_2비표면、정립척촌적영향. 결과표명, 당CeCl_3가입속도=2.5 ml·min~(-1)、 NaOH가입속도=3 ml·min-1、정화온도=90 ℃、정화시간=24 h、 CeCl3∶ C_(12)H_(25)SO_4Na∶ NaOH∶ H2O=1∶ 2.7∶ 7.3∶ 1100(마이비)、배소온도=200 ℃시, CeO_2적비표면적화정립척촌분별위457 m~2·g~(-1)화2.0 nm. 저충고비표면납미CeO_2여상규CeO_2상비, 구유독특적물리、화학성질, 유망성위일충응용엄범적신형재료.
A series of nano-sized CeO_2 particles with high specific surface area were synthesized using a surfactant-assisted method. Variation of preparation conditions, such as addition rate of Ce salt and NaOH, aging time and temperature, kinds of Ce salts, amount of surfactants, resulted in differences in surface area and crystallite size of CeO_2. CeO_2 with the highest specific surface area (457 m~2·g~(-1) and particle size of 2 nm was synthesized under the optimized condition, with a CeCl_3 addition rate of 2.5 ml·min~(-1), NaOH addition rate of 3 ml·min~(-1), aging temperature of 90 ℃, aging time of 24 h, CeCl_3∶ C_(12)H_(25(SO_4Na∶NaOH∶ H2O of 1∶ 2.7∶ 4.3∶ 1100 (molar) and calcination temperature of 200 ℃. Compared with normal CeO_2, the high-surface area CeO_2 had unique physical and chemical properties, so it could be a promising material with potential application.