强激光与粒子束
彊激光與粒子束
강격광여입자속
HIGH POWER LASER AND PARTICLEBEAMS
2009年
5期
770-774
,共5页
溶胶-凝胶%薄膜%氧化锡%氧化硅%量子点
溶膠-凝膠%薄膜%氧化錫%氧化硅%量子點
용효-응효%박막%양화석%양화규%양자점
采用溶胶-凝胶-水热过程制备了氧化硅稳定的氧化锡量子点,然后将其分散到氧化硅溶液中,用旋转涂膜的方法制备光学性能良好的氧化硅稳定的氧化锡量子点薄膜.X射线衍射和高分辨透射电镜表征显示氧化锡量子点具有良好的四方金红石晶型,平均粒径约4.0 nm.室温光致发光显示这种氧化硅稳定的氧化锡量子点薄膜在356 nm和388 nm处分别有很强的激子发光和缺陷态发光.根据透射谱拟合得到了氧化锡量子点薄膜的光学禁带宽度,其值约为3.96 eV.
採用溶膠-凝膠-水熱過程製備瞭氧化硅穩定的氧化錫量子點,然後將其分散到氧化硅溶液中,用鏇轉塗膜的方法製備光學性能良好的氧化硅穩定的氧化錫量子點薄膜.X射線衍射和高分辨透射電鏡錶徵顯示氧化錫量子點具有良好的四方金紅石晶型,平均粒徑約4.0 nm.室溫光緻髮光顯示這種氧化硅穩定的氧化錫量子點薄膜在356 nm和388 nm處分彆有很彊的激子髮光和缺陷態髮光.根據透射譜擬閤得到瞭氧化錫量子點薄膜的光學禁帶寬度,其值約為3.96 eV.
채용용효-응효-수열과정제비료양화규은정적양화석양자점,연후장기분산도양화규용액중,용선전도막적방법제비광학성능량호적양화규은정적양화석양자점박막.X사선연사화고분변투사전경표정현시양화석양자점구유량호적사방금홍석정형,평균립경약4.0 nm.실온광치발광현시저충양화규은정적양화석양자점박막재356 nm화388 nm처분별유흔강적격자발광화결함태발광.근거투사보의합득도료양화석양자점박막적광학금대관도,기치약위3.96 eV.
