粉末冶金材料科学与工程
粉末冶金材料科學與工程
분말야금재료과학여공정
POWDER METALLURGY MATERIALS SCIENCE AND ENGINEERING
2011年
3期
448-454
,共7页
欧阳紫靛%刘芳洋%张治安%赖延清%李劼%刘业翔
歐暘紫靛%劉芳洋%張治安%賴延清%李劼%劉業翔
구양자전%류방양%장치안%뢰연청%리할%류업상
ZnO%Al薄膜%生长温度%退火气氛%光学性质%电学性质
ZnO%Al薄膜%生長溫度%退火氣氛%光學性質%電學性質
ZnO%Al박막%생장온도%퇴화기분%광학성질%전학성질
采用直流磁控溅射法在玻璃衬底上制备ZnO:Al透明导电薄膜,研究生长温度和退火气氛对薄膜结构、形貌、光学和电学性能的影响.结果表明:不同温度下生长的ZnO:Al薄膜均为高度c轴取向的六角铅锌矿结构,400～900 nm波长范围内薄膜的平均透过率均超过85%.ZnO:Al薄膜的电学性能强烈依赖于生长温度,室温～500℃范围内,500℃下生长的薄膜具有最大的载流子浓度(2.294×10<'21>cm<'-3>)和最低电阻率(4.095×10<'-4>Ω·cm).退火气氛对薄膜的性能影响显著,经过不同气氛退火后,薄膜的表面粗糙度降低,结晶质量和光学性能有所提高;在O<,2>、N<,2>、空气等气氛下退火,薄膜的载流子浓度降低,电阻率上升;Ar和真空退火时,薄膜载流子浓度上升,电阻率显著下降.
採用直流磁控濺射法在玻璃襯底上製備ZnO:Al透明導電薄膜,研究生長溫度和退火氣氛對薄膜結構、形貌、光學和電學性能的影響.結果錶明:不同溫度下生長的ZnO:Al薄膜均為高度c軸取嚮的六角鉛鋅礦結構,400～900 nm波長範圍內薄膜的平均透過率均超過85%.ZnO:Al薄膜的電學性能彊烈依賴于生長溫度,室溫～500℃範圍內,500℃下生長的薄膜具有最大的載流子濃度(2.294×10<'21>cm<'-3>)和最低電阻率(4.095×10<'-4>Ω·cm).退火氣氛對薄膜的性能影響顯著,經過不同氣氛退火後,薄膜的錶麵粗糙度降低,結晶質量和光學性能有所提高;在O<,2>、N<,2>、空氣等氣氛下退火,薄膜的載流子濃度降低,電阻率上升;Ar和真空退火時,薄膜載流子濃度上升,電阻率顯著下降.
채용직류자공천사법재파리츤저상제비ZnO:Al투명도전박막,연구생장온도화퇴화기분대박막결구、형모、광학화전학성능적영향.결과표명:불동온도하생장적ZnO:Al박막균위고도c축취향적륙각연자광결구,400～900 nm파장범위내박막적평균투과솔균초과85%.ZnO:Al박막적전학성능강렬의뢰우생장온도,실온～500℃범위내,500℃하생장적박막구유최대적재류자농도(2.294×10<'21>cm<'-3>)화최저전조솔(4.095×10<'-4>Ω·cm).퇴화기분대박막적성능영향현저,경과불동기분퇴화후,박막적표면조조도강저,결정질량화광학성능유소제고;재O<,2>、N<,2>、공기등기분하퇴화,박막적재류자농도강저,전조솔상승;Ar화진공퇴화시,박막재류자농도상승,전조솔현저하강.
