CAJ | 학술논문

用HF酸刻蚀熔石英元件,研究刻蚀对元件后表面划痕的形貌结构及损伤性能的影响,探索损伤阈值提升的原因.时域有限差分算法理论计算结果表明:对于含有50 nm直径氧化锆颗粒的划痕,对入射光调制引发场增强的最大值是入射光强的6.1倍,且最强点位于划痕内部氧化锆颗粒附近,而结构相同但不含杂质的划痕引发的最大场增强为入射光强的3.6倍,最强区位于划痕外围;HF酸刻蚀能够有效去除划痕中的杂质,改变划痕结构,增加其宽深比值,经刻蚀的划痕对入射光调制引发场增强降低到入射光强的2.2倍.实验结果表明,经过深度刻蚀的划痕初始损伤阈值较刻蚀之前提高一倍多；光热弱吸收测试仪测试刻蚀后划痕对1064 nm激光的吸收最大值仅为230 ppm.HF酸刻蚀同时可以提升元件整体损伤阈值,由于元件上无缺陷区域损伤阈值随刻蚀的深入先增加后降低,因此HF酸刻蚀应进行到元件损伤阈值提升到最大值为止.
용HF산각식용석영원건,연구각식대원건후표면화흔적형모결구급손상성능적영향,탐색손상역치제승적원인.시역유한차분산법이론계산결과표명:대우함유50 nm직경양화고과립적화흔,대입사광조제인발장증강적최대치시입사광강적6.1배,차최강점위우화흔내부양화고과립부근,이결구상동단불함잡질적화흔인발적최대장증강위입사광강적3.6배,최강구위우화흔외위;HF산각식능구유효거제화흔중적잡질,개변화흔결구,증가기관심비치,경각식적화흔대입사광조제인발장증강강저도입사광강적2.2배.실험결과표명,경과심도각식적화흔초시손상역치교각식지전제고일배다；광열약흡수측시의측시각식후화흔대1064 nm격광적흡수최대치부위230 ppm.HF산각식동시가이제승원건정체손상역치,유우원건상무결함구역손상역치수각식적심입선증가후강저,인차HF산각식응진행도원건손상역치제승도최대치위지.