山东大学学报(工学版)
山東大學學報(工學版)
산동대학학보(공학판)
JOURNAL OF SHANDONG UNIVERSITY OF TECHNOLOGY
2003年
3期
229-230，234
,共3页
HArF和HArCl分子%分子轨道从头算方法%G2理论
HArF和HArCl分子%分子軌道從頭算方法%G2理論
HArF화HArCl분자%분자궤도종두산방법%G2이론
使用分子轨道从头算方法, 在UMP2/6-31G水平上对HArF和HArCl分子的基态和过渡态的结构进行了几何优化.在G2理论框架下,计算的基态到过渡态的势垒值分别是108.86KJ/MOL(HArF)和95.83*!KJ/MOL(HArCl),这表明在合适的低温条件下有可能发现稳定的HArCl分子.
使用分子軌道從頭算方法, 在UMP2/6-31G水平上對HArF和HArCl分子的基態和過渡態的結構進行瞭幾何優化.在G2理論框架下,計算的基態到過渡態的勢壘值分彆是108.86KJ/MOL(HArF)和95.83*!KJ/MOL(HArCl),這錶明在閤適的低溫條件下有可能髮現穩定的HArCl分子.
사용분자궤도종두산방법, 재UMP2/6-31G수평상대HArF화HArCl분자적기태화과도태적결구진행료궤하우화.재G2이론광가하,계산적기태도과도태적세루치분별시108.86KJ/MOL(HArF)화95.83*!KJ/MOL(HArCl),저표명재합괄적저온조건하유가능발현은정적HArCl분자.
