真空科学与技术学报
真空科學與技術學報
진공과학여기술학보
JOURNAL OF VACUUM SCIENCE AND TECHNOLOGY
2010年
2期
149-153
,共5页
于贺%王涛%吴志明%蒋亚东%陈超%董翔%靖红军
于賀%王濤%吳誌明%蔣亞東%陳超%董翔%靖紅軍
우하%왕도%오지명%장아동%진초%동상%정홍군
磁控溅射%矩形靶%转速比%膜厚均匀性
磁控濺射%矩形靶%轉速比%膜厚均勻性
자공천사%구형파%전속비%막후균균성
Magnetron sputtering%Rectangle target%Ratio of ω_z/ω_g%Thickness uniformity of thin film
研究了公-自转磁控溅射镀膜系统的机理.通过物理建模,使用交点采集和时间步长划分两种模型,分别计算模拟了矩形靶沉积时间的三维分布图,并讨论自转与公转转速比对沉积时间均匀性的影响.模拟结果表明:两种模型仿真结果一致,验证了理论模型的正确性.同时得到结论:此公-自转系统可以通过调节转速比的方法来改善薄膜厚度的均匀性,采用文中指定工艺参数,当转速比等于0.5的时候,薄膜厚度最均匀.仿真得到的偏差结果与实验较好的吻合.
研究瞭公-自轉磁控濺射鍍膜繫統的機理.通過物理建模,使用交點採集和時間步長劃分兩種模型,分彆計算模擬瞭矩形靶沉積時間的三維分佈圖,併討論自轉與公轉轉速比對沉積時間均勻性的影響.模擬結果錶明:兩種模型倣真結果一緻,驗證瞭理論模型的正確性.同時得到結論:此公-自轉繫統可以通過調節轉速比的方法來改善薄膜厚度的均勻性,採用文中指定工藝參數,噹轉速比等于0.5的時候,薄膜厚度最均勻.倣真得到的偏差結果與實驗較好的吻閤.
연구료공-자전자공천사도막계통적궤리.통과물리건모,사용교점채집화시간보장화분량충모형,분별계산모의료구형파침적시간적삼유분포도,병토론자전여공전전속비대침적시간균균성적영향.모의결과표명:량충모형방진결과일치,험증료이론모형적정학성.동시득도결론:차공-자전계통가이통과조절전속비적방법래개선박막후도적균균성,채용문중지정공예삼수,당전속비등우0.5적시후,박막후도최균균.방진득도적편차결과여실험교호적문합.
OOPIC-PRO coftware based on Particle in Cell-Monte Carlo collision model is useed to investigate the discharge in the shadow mask plasma display panel.The main-discharge region and the striation varition have been studied wthe hte scan electrode width,the xenon proportions in gas mixture and the gas pressures are changed.The simulated results were compared with dith derect observations with an intensified charged coupled device camer.The simulated and experimental results in dicate that the main-discharge region will reduce,the striation region will enlarge and the discharge efficiency