微电子学
微電子學
미전자학
MICROELECTRONICS
2010年
4期
604-606,620
,共4页
于庆先%孙四通%张敬祎%高秀敏%黄富育%李烈英
于慶先%孫四通%張敬祎%高秀敏%黃富育%李烈英
우경선%손사통%장경의%고수민%황부육%리렬영
微波等离子体%镍膜%离子轰击
微波等離子體%鎳膜%離子轟擊
미파등리자체%얼막%리자굉격
采用微波等离子镀膜机制备镍薄膜.该方法的特点是用纯金属镍为靶,用微波产生等离子体,用交流电源作为轰击电源,远程输运.使用XRD、SEM、EDS对采用微波等离子法沉积的薄膜进行表征,对实验结果进行分析,并对镀膜工艺进行了初步探索.
採用微波等離子鍍膜機製備鎳薄膜.該方法的特點是用純金屬鎳為靶,用微波產生等離子體,用交流電源作為轟擊電源,遠程輸運.使用XRD、SEM、EDS對採用微波等離子法沉積的薄膜進行錶徵,對實驗結果進行分析,併對鍍膜工藝進行瞭初步探索.
채용미파등리자도막궤제비얼박막.해방법적특점시용순금속얼위파,용미파산생등리자체,용교류전원작위굉격전원,원정수운.사용XRD、SEM、EDS대채용미파등리자법침적적박막진행표정,대실험결과진행분석,병대도막공예진행료초보탐색.
