物理学报
物理學報
물이학보
2004年
9期
3220-3224
,共5页
反应磁控溅射%氟化类金刚石薄膜%红外透射光谱%XPS光谱
反應磁控濺射%氟化類金剛石薄膜%紅外透射光譜%XPS光譜
반응자공천사%불화류금강석박막%홍외투사광보%XPS광보
采用射频反应磁控溅射法用高纯石墨作靶、三氟甲烷(CHF3)和氩气(Ar)作源气体制备了氟化类金刚石(F-DLC)薄膜,通过XPS光谱结合拉曼光谱、红外透射光谱和紫外-可见光光谱研究了源气体流量比等工艺条件对薄膜中键结构、sp2/sp3杂化比以及光学带隙等性能的影响.结果表明在低功率(60W)、高气压(2.0Pa)和适当的流量比(Ar/CHF3=2∶1)下利用射频反应磁控溅射法可制备出氟含量高且具有较宽光学带隙和超低介电常数的F-DLC薄膜.
採用射頻反應磁控濺射法用高純石墨作靶、三氟甲烷(CHF3)和氬氣(Ar)作源氣體製備瞭氟化類金剛石(F-DLC)薄膜,通過XPS光譜結閤拉曼光譜、紅外透射光譜和紫外-可見光光譜研究瞭源氣體流量比等工藝條件對薄膜中鍵結構、sp2/sp3雜化比以及光學帶隙等性能的影響.結果錶明在低功率(60W)、高氣壓(2.0Pa)和適噹的流量比(Ar/CHF3=2∶1)下利用射頻反應磁控濺射法可製備齣氟含量高且具有較寬光學帶隙和超低介電常數的F-DLC薄膜.
채용사빈반응자공천사법용고순석묵작파、삼불갑완(CHF3)화아기(Ar)작원기체제비료불화류금강석(F-DLC)박막,통과XPS광보결합랍만광보、홍외투사광보화자외-가견광광보연구료원기체류량비등공예조건대박막중건결구、sp2/sp3잡화비이급광학대극등성능적영향.결과표명재저공솔(60W)、고기압(2.0Pa)화괄당적류량비(Ar/CHF3=2∶1)하이용사빈반응자공천사법가제비출불함량고차구유교관광학대극화초저개전상수적F-DLC박막.
