无机材料学报
無機材料學報
무궤재료학보
JOURNAL OF INORGANIC MATERIALS
2004年
4期
895-901
,共7页
胡晓君%李荣斌%沈荷生%戴永兵%何贤昶
鬍曉君%李榮斌%瀋荷生%戴永兵%何賢昶
호효군%리영빈%침하생%대영병%하현창
金刚石薄膜%共掺杂%n型%电阻率
金剛石薄膜%共摻雜%n型%電阻率
금강석박막%공참잡%n형%전조솔
用离子注入方法,在CVD金刚石薄膜中共注入硼离子和磷离子,得到了电阻率较低的n型金刚石薄膜.Hall效应测试表明,800℃退火后,在注入的磷离子剂量相同的情况下,共注入硼的金刚石薄膜的载流子浓度与单一掺磷的相近,但Hall迁移率高,电阻率低.FTIR结果表明B-H结的形成钝化了硼的受主特性,使磷的施主特性没有被补偿,共掺杂薄膜中载流子浓度没有大幅度减少.EPR和Raman测试结果证实了较高温度退火后的共掺杂薄膜的晶格结构比单掺杂薄膜的更完整,从而有利于提高载流子迁移率,降低电阻率.
用離子註入方法,在CVD金剛石薄膜中共註入硼離子和燐離子,得到瞭電阻率較低的n型金剛石薄膜.Hall效應測試錶明,800℃退火後,在註入的燐離子劑量相同的情況下,共註入硼的金剛石薄膜的載流子濃度與單一摻燐的相近,但Hall遷移率高,電阻率低.FTIR結果錶明B-H結的形成鈍化瞭硼的受主特性,使燐的施主特性沒有被補償,共摻雜薄膜中載流子濃度沒有大幅度減少.EPR和Raman測試結果證實瞭較高溫度退火後的共摻雜薄膜的晶格結構比單摻雜薄膜的更完整,從而有利于提高載流子遷移率,降低電阻率.
용리자주입방법,재CVD금강석박막중공주입붕리자화린리자,득도료전조솔교저적n형금강석박막.Hall효응측시표명,800℃퇴화후,재주입적린리자제량상동적정황하,공주입붕적금강석박막적재류자농도여단일참린적상근,단Hall천이솔고,전조솔저.FTIR결과표명B-H결적형성둔화료붕적수주특성,사린적시주특성몰유피보상,공참잡박막중재류자농도몰유대폭도감소.EPR화Raman측시결과증실료교고온도퇴화후적공참잡박막적정격결구비단참잡박막적경완정,종이유리우제고재류자천이솔,강저전조솔.
