低气压高密度等离子体刻蚀轮廓的数值研究
저기압고밀도등리자체각식륜곽적수치연구
Numerical Studies on Etching Profiles in Low-pressure High-density Plasma
  • 万方数据
    固体电子学研究与进展 고체전자학연구여진전
    RESEARCH & PROGRESS OF SOLID STATE ELECTRONICS
    2003年 3期 359-365 ,共7页

    杨银堂%王平%柴常春%付俊兴%徐新艳%杨桂杰%刘宁

    양은당%왕평%시상춘%부준흥%서신염%양계걸%류저

    高密度等离子体%刻蚀轮廓%模型%数值模拟 高密度等離子體%刻蝕輪廓%模型%數值模擬
    고밀도등리자체%각식륜곽%모형%수치모의
    低气压、高密度等离子体刻蚀轮廓的数值研究对于研究高密度等离子体刻蚀工艺具有重要意义.文中提出了一个二维低气压、高密度等离子体刻蚀轮廓的理论模型,并利用"线"算法进行了数值模拟.与以往不同之处在于,模型中引入了掩模对入射粒子流的遮蔽效应和中性粒子在不同刻蚀表面的粘附系数的影响,使得模拟结果的准确性大大提高.论文最终还给出了要获得各向异性刻蚀的eVS/kTi和Γn0/Γi0的取值范围.
    저기압、고밀도등리자체각식륜곽적수치연구대우연구고밀도등리자체각식공예구유중요의의.문중제출료일개이유저기압、고밀도등리자체각식륜곽적이론모형,병이용"선"산법진행료수치모의.여이왕불동지처재우,모형중인입료엄모대입사입자류적차폐효응화중성입자재불동각식표면적점부계수적영향,사득모의결과적준학성대대제고.논문최종환급출료요획득각향이성각식적eVS/kTi화Γn0/Γi0적취치범위.
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