电镀与精饰
電鍍與精飾
전도여정식
PLATING & FINISHING
2001年
3期
1-4
,共4页
牛振江%林飞峰%杨防祖%姚士冰%周绍民
牛振江%林飛峰%楊防祖%姚士冰%週紹民
우진강%림비봉%양방조%요사빙%주소민
钒化合物%稳定剂%电沉积%酸性镀锡
釩化閤物%穩定劑%電沉積%痠性鍍錫
범화합물%은정제%전침적%산성도석
研究了Shiff碱型光亮剂的酸性镀锡体系中,钒化合物稳定剂对锡电沉积的电流效率和镀层外观及织构的影响.当稳定剂质量浓度为0.10 g/L时,镀层的光亮范围向低电流端扩展,在2.5～5.0 A/dm2电流密度范围内,电流效率及沉积速度都有所提高.镀层显示β-Sn(101)和(112)晶面的织构,但含钒稳定剂的镀液中得到的镀层,(101)晶面的织构系数降低而(112)晶面的织构系数增加.
研究瞭Shiff堿型光亮劑的痠性鍍錫體繫中,釩化閤物穩定劑對錫電沉積的電流效率和鍍層外觀及織構的影響.噹穩定劑質量濃度為0.10 g/L時,鍍層的光亮範圍嚮低電流耑擴展,在2.5～5.0 A/dm2電流密度範圍內,電流效率及沉積速度都有所提高.鍍層顯示β-Sn(101)和(112)晶麵的織構,但含釩穩定劑的鍍液中得到的鍍層,(101)晶麵的織構繫數降低而(112)晶麵的織構繫數增加.
연구료Shiff감형광량제적산성도석체계중,범화합물은정제대석전침적적전류효솔화도층외관급직구적영향.당은정제질량농도위0.10 g/L시,도층적광량범위향저전류단확전,재2.5～5.0 A/dm2전류밀도범위내,전류효솔급침적속도도유소제고.도층현시β-Sn(101)화(112)정면적직구,단함범은정제적도액중득도적도층,(101)정면적직구계수강저이(112)정면적직구계수증가.
