高等学校化学学报
高等學校化學學報
고등학교화학학보
CHEMICAL JOURNAL OF CHINESE UNIVERSITIES
2010年
4期
644-648
,共5页
ZnS:Cu,Al%纳米结构%水热法%光致发光%X射线激发发光%退火
ZnS:Cu,Al%納米結構%水熱法%光緻髮光%X射線激髮髮光%退火
ZnS:Cu,Al%납미결구%수열법%광치발광%X사선격발발광%퇴화
采用水热法低温(200 ℃)处理12 h直接制备ZnS:Cu, Al纳米晶, 并探讨其光致(PL)和X射线激发(XEL)光谱特性及后续退火处理的影响. XRD和TEM分析表明, 水热法直接制备的ZnS:Cu, Al粒径约为15 nm, 尺寸分布窄, 分散性好, 具有纯立方相的球形结构. 其PL和XEL光谱均为宽带谱, n(Cu)/n(Zn)=3×10-4和n(Cu)/n(Al)= 0.5时PL和XEL光谱强度最大, XEL峰值在470 nm处. 在此条件下, 水热处理3 h直接合成的纳米晶在氩气保护下于800 ℃退火1 h后样品的XEL发光进一步增强. XEL光谱强度约是退火前样品的8倍, 此时峰值波长在520 nm, 团聚形成径为200～500 nm的类球形六方相结构. 发光强度增强, 但粒径很小, 对提高成像系统分辨率非常有意义. 通过比较样品的XEL和PL光谱, 讨论了XEL和PL光谱的发光机理和激发机制及退火对其特性的影响.
採用水熱法低溫(200 ℃)處理12 h直接製備ZnS:Cu, Al納米晶, 併探討其光緻(PL)和X射線激髮(XEL)光譜特性及後續退火處理的影響. XRD和TEM分析錶明, 水熱法直接製備的ZnS:Cu, Al粒徑約為15 nm, 呎吋分佈窄, 分散性好, 具有純立方相的毬形結構. 其PL和XEL光譜均為寬帶譜, n(Cu)/n(Zn)=3×10-4和n(Cu)/n(Al)= 0.5時PL和XEL光譜彊度最大, XEL峰值在470 nm處. 在此條件下, 水熱處理3 h直接閤成的納米晶在氬氣保護下于800 ℃退火1 h後樣品的XEL髮光進一步增彊. XEL光譜彊度約是退火前樣品的8倍, 此時峰值波長在520 nm, 糰聚形成徑為200～500 nm的類毬形六方相結構. 髮光彊度增彊, 但粒徑很小, 對提高成像繫統分辨率非常有意義. 通過比較樣品的XEL和PL光譜, 討論瞭XEL和PL光譜的髮光機理和激髮機製及退火對其特性的影響.
채용수열법저온(200 ℃)처리12 h직접제비ZnS:Cu, Al납미정, 병탐토기광치(PL)화X사선격발(XEL)광보특성급후속퇴화처리적영향. XRD화TEM분석표명, 수열법직접제비적ZnS:Cu, Al립경약위15 nm, 척촌분포착, 분산성호, 구유순립방상적구형결구. 기PL화XEL광보균위관대보, n(Cu)/n(Zn)=3×10-4화n(Cu)/n(Al)= 0.5시PL화XEL광보강도최대, XEL봉치재470 nm처. 재차조건하, 수열처리3 h직접합성적납미정재아기보호하우800 ℃퇴화1 h후양품적XEL발광진일보증강. XEL광보강도약시퇴화전양품적8배, 차시봉치파장재520 nm, 단취형성경위200～500 nm적류구형륙방상결구. 발광강도증강, 단립경흔소, 대제고성상계통분변솔비상유의의. 통과비교양품적XEL화PL광보, 토론료XEL화PL광보적발광궤리화격발궤제급퇴화대기특성적영향.
