西南科技大学学报
西南科技大學學報
서남과기대학학보
JOURNAL OF SOUTHWEST CHINA INSTITUTE OF TECHNOLOGY
2011年
2期
1-4,9
,共5页
刘剑%王明乐%高刘德%董明灵%田晶晶%李园园
劉劍%王明樂%高劉德%董明靈%田晶晶%李園園
류검%왕명악%고류덕%동명령%전정정%리완완
偶氮苯%介晶基元%聚合物%光致取向特性
偶氮苯%介晶基元%聚閤物%光緻取嚮特性
우담분%개정기원%취합물%광치취향특성
用薄膜透射率变化研究了偶氮液晶聚合物膜不同功率光照条件下的取向速度及取向稳定性,并用锥光干涉图确定了相应介晶基元的取向方向。实验结果表明介晶基元的取向速度和取向度随光照时间和光照功率增加而增加,超过一定功率阈值时,取向变得不稳定,光照时间增加而薄膜的取向度(透射率)反而降低。介晶基元的取向方向结果表明在阈值功率以上强度光照时,介晶基元发生了面内和面外两种取向。面外取向的介晶基元不稳定,在停止光照后容易发生解取向,聚合物膜的透射率降低。而面内取向的介晶基元则能稳定维持其取向状态,不会发生解取向。采用不饱和取向的方法可缩短取向时间95%,薄膜取向度提高1.3倍。4 ms的一次曝光足以使聚合物膜产生可读出、稳定的面内取向,取向的结果能保持2年不发生变化。
用薄膜透射率變化研究瞭偶氮液晶聚閤物膜不同功率光照條件下的取嚮速度及取嚮穩定性,併用錐光榦涉圖確定瞭相應介晶基元的取嚮方嚮。實驗結果錶明介晶基元的取嚮速度和取嚮度隨光照時間和光照功率增加而增加,超過一定功率閾值時,取嚮變得不穩定,光照時間增加而薄膜的取嚮度(透射率)反而降低。介晶基元的取嚮方嚮結果錶明在閾值功率以上彊度光照時,介晶基元髮生瞭麵內和麵外兩種取嚮。麵外取嚮的介晶基元不穩定,在停止光照後容易髮生解取嚮,聚閤物膜的透射率降低。而麵內取嚮的介晶基元則能穩定維持其取嚮狀態,不會髮生解取嚮。採用不飽和取嚮的方法可縮短取嚮時間95%,薄膜取嚮度提高1.3倍。4 ms的一次曝光足以使聚閤物膜產生可讀齣、穩定的麵內取嚮,取嚮的結果能保持2年不髮生變化。
용박막투사솔변화연구료우담액정취합물막불동공솔광조조건하적취향속도급취향은정성,병용추광간섭도학정료상응개정기원적취향방향。실험결과표명개정기원적취향속도화취향도수광조시간화광조공솔증가이증가,초과일정공솔역치시,취향변득불은정,광조시간증가이박막적취향도(투사솔)반이강저。개정기원적취향방향결과표명재역치공솔이상강도광조시,개정기원발생료면내화면외량충취향。면외취향적개정기원불은정,재정지광조후용역발생해취향,취합물막적투사솔강저。이면내취향적개정기원칙능은정유지기취향상태,불회발생해취향。채용불포화취향적방법가축단취향시간95%,박막취향도제고1.3배。4 ms적일차폭광족이사취합물막산생가독출、은정적면내취향,취향적결과능보지2년불발생변화。