曲阜师范大学学报（自然科学版）
麯阜師範大學學報（自然科學版）
곡부사범대학학보（자연과학판）
JOURNAL OF QUFU NORMAL UNIVERSITY (NATURAL SCIENCE EDITION)
2010年
4期
77-80
,共4页
齐瑞云%吴福全%郝殿中%王庆%吴闻迪
齊瑞雲%吳福全%郝殿中%王慶%吳聞迪
제서운%오복전%학전중%왕경%오문적
薄膜%应力%沉积速率%微结构%折射率
薄膜%應力%沉積速率%微結構%摺射率
박막%응력%침적속솔%미결구%절사솔
利用电子枪蒸镀法制备了HfO2薄膜,控制沉积速率分别为3.3(A)/s、5.5(A)/s和9.6(A)/s. 利用ZGYO干涉仪、UV3101-PC分光光度计、D/Max-ⅢA型X射线衍射仪和JSM-6700F冷场发射扫描电镜对样品进行了测试. 结果表明:在本实验条件下制备的HfO2薄膜都是非晶态结构. 样品的残余应力与本征应力变化趋势相同,都随沉积速率的加快先增后减,沉积速率为3.3(A)/s时应力最小. 不同沉积速率下制备样品的折射率都是正常色散,3.3(A)/s沉积的样品色散较小并且有较好的表面平整度. 这些结果为制备高性能HfO2薄膜提供参考.
利用電子鎗蒸鍍法製備瞭HfO2薄膜,控製沉積速率分彆為3.3(A)/s、5.5(A)/s和9.6(A)/s. 利用ZGYO榦涉儀、UV3101-PC分光光度計、D/Max-ⅢA型X射線衍射儀和JSM-6700F冷場髮射掃描電鏡對樣品進行瞭測試. 結果錶明:在本實驗條件下製備的HfO2薄膜都是非晶態結構. 樣品的殘餘應力與本徵應力變化趨勢相同,都隨沉積速率的加快先增後減,沉積速率為3.3(A)/s時應力最小. 不同沉積速率下製備樣品的摺射率都是正常色散,3.3(A)/s沉積的樣品色散較小併且有較好的錶麵平整度. 這些結果為製備高性能HfO2薄膜提供參攷.
이용전자창증도법제비료HfO2박막,공제침적속솔분별위3.3(A)/s、5.5(A)/s화9.6(A)/s. 이용ZGYO간섭의、UV3101-PC분광광도계、D/Max-ⅢA형X사선연사의화JSM-6700F랭장발사소묘전경대양품진행료측시. 결과표명:재본실험조건하제비적HfO2박막도시비정태결구. 양품적잔여응력여본정응력변화추세상동,도수침적속솔적가쾌선증후감,침적속솔위3.3(A)/s시응력최소. 불동침적속솔하제비양품적절사솔도시정상색산,3.3(A)/s침적적양품색산교소병차유교호적표면평정도. 저사결과위제비고성능HfO2박막제공삼고.
