沈阳理工大学学报
瀋暘理工大學學報
침양리공대학학보
JOURNAL OF SHENYANG INTITUTE OF TECHNOLOGY
2012年
1期
5-8
,共4页
吕树国%张罡%李玉海%金光
呂樹國%張罡%李玉海%金光
려수국%장강%리옥해%금광
电弧离子镀%TiAlN膜层%离子束%显微硬度
電弧離子鍍%TiAlN膜層%離子束%顯微硬度
전호리자도%TiAlN막층%리자속%현미경도
采用俄罗斯UVN 0.5D2I脉冲离子束辅助电弧离子镀沉积设备,在高速钢W18Cr4V基材上沉积TiAlN膜层.研究了膜层沉积之前N离子束轰击基材以及膜层沉积过程中N离子束辅助轰击对TiAlN膜层显微硬度的影响.结果表明:膜层沉积之前,N离子轰击得到高度洁净的表面,使基材的显微硬度由原来的900HV0.01提高到1230HV0.01.膜层沉积过程中,脉冲N离子束轰击,消除了膜层中的硬度“软点”及阴影效应,增加(Ti,Al)N相的含量,膜层的内部产生了压应力,这些因素显著提高了膜层的硬度,膜层的最高硬度为2530HV0.01.但轰击能量不能过高,否则会降低膜层的显微硬度.
採用俄囉斯UVN 0.5D2I脈遲離子束輔助電弧離子鍍沉積設備,在高速鋼W18Cr4V基材上沉積TiAlN膜層.研究瞭膜層沉積之前N離子束轟擊基材以及膜層沉積過程中N離子束輔助轟擊對TiAlN膜層顯微硬度的影響.結果錶明:膜層沉積之前,N離子轟擊得到高度潔淨的錶麵,使基材的顯微硬度由原來的900HV0.01提高到1230HV0.01.膜層沉積過程中,脈遲N離子束轟擊,消除瞭膜層中的硬度“軟點”及陰影效應,增加(Ti,Al)N相的含量,膜層的內部產生瞭壓應力,這些因素顯著提高瞭膜層的硬度,膜層的最高硬度為2530HV0.01.但轟擊能量不能過高,否則會降低膜層的顯微硬度.
채용아라사UVN 0.5D2I맥충리자속보조전호리자도침적설비,재고속강W18Cr4V기재상침적TiAlN막층.연구료막층침적지전N리자속굉격기재이급막층침적과정중N리자속보조굉격대TiAlN막층현미경도적영향.결과표명:막층침적지전,N리자굉격득도고도길정적표면,사기재적현미경도유원래적900HV0.01제고도1230HV0.01.막층침적과정중,맥충N리자속굉격,소제료막층중적경도“연점”급음영효응,증가(Ti,Al)N상적함량,막층적내부산생료압응력,저사인소현저제고료막층적경도,막층적최고경도위2530HV0.01.단굉격능량불능과고,부칙회강저막층적현미경도.
