真空科学与技术学报
真空科學與技術學報
진공과학여기술학보
JOURNAL OF VACUUM SCIENCE AND TECHNOLOGY
2004年
3期
191-194
,共4页
纳米%真空气相沉积%物相结构%光学特性%掺铟%ZnO薄膜%CdS薄膜
納米%真空氣相沉積%物相結構%光學特性%摻銦%ZnO薄膜%CdS薄膜
납미%진공기상침적%물상결구%광학특성%참인%ZnO박막%CdS박막
采用真空气相沉积法在玻璃衬底上制备纳米级ZnO和CdS薄膜.研究掺In和热处理对ZnO、CdS薄膜结构、光学特性的影响.实验给出,适当掺杂能够明显改善纳米ZnO、CdS薄膜的物相结构,ZnO薄膜的晶粒尺寸随掺杂含量的增加而减小,CdS薄膜晶粒尺寸随掺杂含量的增加而变大,但薄膜的光透射性有所降低.在短波范围内,ZnO薄膜的光透率好于CdS薄膜;在500 nm～1000 nm范围内,CdS薄膜的光透率好.掺In后ZnO薄膜的光学带宽从3.2eV减小至2.85 eV;掺In后CdS薄膜光学带宽从2.42 eV减小至2.35eV.
採用真空氣相沉積法在玻璃襯底上製備納米級ZnO和CdS薄膜.研究摻In和熱處理對ZnO、CdS薄膜結構、光學特性的影響.實驗給齣,適噹摻雜能夠明顯改善納米ZnO、CdS薄膜的物相結構,ZnO薄膜的晶粒呎吋隨摻雜含量的增加而減小,CdS薄膜晶粒呎吋隨摻雜含量的增加而變大,但薄膜的光透射性有所降低.在短波範圍內,ZnO薄膜的光透率好于CdS薄膜;在500 nm～1000 nm範圍內,CdS薄膜的光透率好.摻In後ZnO薄膜的光學帶寬從3.2eV減小至2.85 eV;摻In後CdS薄膜光學帶寬從2.42 eV減小至2.35eV.
채용진공기상침적법재파리츤저상제비납미급ZnO화CdS박막.연구참In화열처리대ZnO、CdS박막결구、광학특성적영향.실험급출,괄당참잡능구명현개선납미ZnO、CdS박막적물상결구,ZnO박막적정립척촌수참잡함량적증가이감소,CdS박막정립척촌수참잡함량적증가이변대,단박막적광투사성유소강저.재단파범위내,ZnO박막적광투솔호우CdS박막;재500 nm～1000 nm범위내,CdS박막적광투솔호.참In후ZnO박막적광학대관종3.2eV감소지2.85 eV;참In후CdS박막광학대관종2.42 eV감소지2.35eV.
