西安工业大学学报
西安工業大學學報
서안공업대학학보
JOURNAL OF XI'AN TECHNOLOGICAL UNIVERSITY
2011年
5期
418-423
,共6页
李建超%惠迎雪%刘政%王超
李建超%惠迎雪%劉政%王超
리건초%혜영설%류정%왕초
非平衡磁控溅射%TiN薄膜%热处理%晶体结构
非平衡磁控濺射%TiN薄膜%熱處理%晶體結構
비평형자공천사%TiN박막%열처리%정체결구
为了比较不同热处理方式及工艺对TiN薄膜结构和性能的影响,在真空条件下、300~900℃范围内,对采用非平衡磁控溅射方法在单晶硅基底上沉积TiN薄膜后进行了热处理实验,考查了热处理模式(不同升温速率)和温度对薄膜结构和性能的影响.利用X射线衍射仪(XRD)对薄膜微结构进行表征,并利用扫描电镜观察了不同热处理模式下薄膜的表面形貌.同时,对不同工艺下薄膜的硬度、表面粗糙度和电阻率进行了表征.结果表明,薄膜经过热处理后,其晶体结构、择优取向、硬度、粗糙度和电阻率发生明显变化,并且随着热处理模式和温度的不同而产生较大差异.无论哪种模式,真空热处理后TiN薄膜的硬度均有所下降,其表面粗糙度亦有相似的变化趋势.两种模式下,经过450℃热处理后薄膜的硬度和粗糙度均达到最大值,与其高度择优取向的晶体结构有明显的相关性.
為瞭比較不同熱處理方式及工藝對TiN薄膜結構和性能的影響,在真空條件下、300~900℃範圍內,對採用非平衡磁控濺射方法在單晶硅基底上沉積TiN薄膜後進行瞭熱處理實驗,攷查瞭熱處理模式(不同升溫速率)和溫度對薄膜結構和性能的影響.利用X射線衍射儀(XRD)對薄膜微結構進行錶徵,併利用掃描電鏡觀察瞭不同熱處理模式下薄膜的錶麵形貌.同時,對不同工藝下薄膜的硬度、錶麵粗糙度和電阻率進行瞭錶徵.結果錶明,薄膜經過熱處理後,其晶體結構、擇優取嚮、硬度、粗糙度和電阻率髮生明顯變化,併且隨著熱處理模式和溫度的不同而產生較大差異.無論哪種模式,真空熱處理後TiN薄膜的硬度均有所下降,其錶麵粗糙度亦有相似的變化趨勢.兩種模式下,經過450℃熱處理後薄膜的硬度和粗糙度均達到最大值,與其高度擇優取嚮的晶體結構有明顯的相關性.
위료비교불동열처리방식급공예대TiN박막결구화성능적영향,재진공조건하、300~900℃범위내,대채용비평형자공천사방법재단정규기저상침적TiN박막후진행료열처리실험,고사료열처리모식(불동승온속솔)화온도대박막결구화성능적영향.이용X사선연사의(XRD)대박막미결구진행표정,병이용소묘전경관찰료불동열처리모식하박막적표면형모.동시,대불동공예하박막적경도、표면조조도화전조솔진행료표정.결과표명,박막경과열처리후,기정체결구、택우취향、경도、조조도화전조솔발생명현변화,병차수착열처리모식화온도적불동이산생교대차이.무론나충모식,진공열처리후TiN박막적경도균유소하강,기표면조조도역유상사적변화추세.량충모식하,경과450℃열처리후박막적경도화조조도균체도최대치,여기고도택우취향적정체결구유명현적상관성.