北京科技大学学报
北京科技大學學報
북경과기대학학보
JOURNAL OF UNIVERSITY OF SCIENCE AND TECHNOLOGY BEIJING
2002年
2期
191-193
,共3页
于广华%朱逢吾%马纪东%王安荣
于廣華%硃逢吾%馬紀東%王安榮
우엄화%주봉오%마기동%왕안영
角分辨X射线光电子能谱%NiO/NiFe界面%交换耦合%界面反应
角分辨X射線光電子能譜%NiO/NiFe界麵%交換耦閤%界麵反應
각분변X사선광전자능보%NiO/NiFe계면%교환우합%계면반응
磁性多层膜Ta/NiO/NiFe/Ta由磁控溅射方法制备.采用角分辨X射线光电子能谱(XPS)研究了反铁磁(NiO)/铁磁(NiFe)界面.结果表明,在NiO/NiFe界面发生了化学反应: NiO+Fe = Ni+FeO和3NiO+2Fe =3Ni+Fe2O3,此反应深度约为1～1.5 nm.反应产物将影响NiO对NiFe的交换耦合.
磁性多層膜Ta/NiO/NiFe/Ta由磁控濺射方法製備.採用角分辨X射線光電子能譜(XPS)研究瞭反鐵磁(NiO)/鐵磁(NiFe)界麵.結果錶明,在NiO/NiFe界麵髮生瞭化學反應: NiO+Fe = Ni+FeO和3NiO+2Fe =3Ni+Fe2O3,此反應深度約為1～1.5 nm.反應產物將影響NiO對NiFe的交換耦閤.
자성다층막Ta/NiO/NiFe/Ta유자공천사방법제비.채용각분변X사선광전자능보(XPS)연구료반철자(NiO)/철자(NiFe)계면.결과표명,재NiO/NiFe계면발생료화학반응: NiO+Fe = Ni+FeO화3NiO+2Fe =3Ni+Fe2O3,차반응심도약위1～1.5 nm.반응산물장영향NiO대NiFe적교환우합.
