电子束曝光机激光工件台系统研制
전자속폭광궤격광공건태계통연제
Laser Stage System for E-Beam Lithography Machine
  • 万方数据
    微纳电子技术 미납전자기술
    MICRONANOELECTRONIC TECHNOLOGY
    2006年 2期 102-106 ,共5页

    乔俊仙%王肇志%胡松%张正荣%邢薇%唐小萍%王淑蓉

    교준선%왕조지%호송%장정영%형미%당소평%왕숙용

    电子束曝光机%激光干涉仪%工件台%精密定位 電子束曝光機%激光榦涉儀%工件檯%精密定位
    전자속폭광궤%격광간섭의%공건태%정밀정위
    介绍了nm级电子束曝光机激光定位精密工件台系统的结构组成、各部分技术措施及总体性能指标.该工件台采用HP5527激光干涉测量系统,测量分辨率达0.6nm,结构上成功将导向与承载分离,对承片台、机械手等进行重大创新.无论是整机性能还是关键技术单元均处于国内领先水平,是一台性能优良、高精度的电子束曝光机工件台.
    개소료nm급전자속폭광궤격광정위정밀공건태계통적결구조성、각부분기술조시급총체성능지표.해공건태채용HP5527격광간섭측량계통,측량분변솔체0.6nm,결구상성공장도향여승재분리,대승편태、궤계수등진행중대창신.무론시정궤성능환시관건기술단원균처우국내령선수평,시일태성능우량、고정도적전자속폭광궤공건태.
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