光子学报
光子學報
광자학보
ACTA PHOTONICA SINICA
2009年
1期
194-198
,共5页
超光滑表面%等离子体%表面处理%表面粗糙度
超光滑錶麵%等離子體%錶麵處理%錶麵粗糙度
초광활표면%등리자체%표면처리%표면조조도
通过对射频功率、反应室压强和处理时间等参量进行实验,系统研究了等离子体处理对基片表面状态的影响.结果表明,等离子体处理可以溅射去除加工变质层,降低表面粗糙度,提高基片表面洁净度和表面能.优化后的参量证实,经等离子处理的基片比未经等离子体处理的基片镀膜后损耗平均降低34.2 ppm,并且显示出良好的一致性.
通過對射頻功率、反應室壓彊和處理時間等參量進行實驗,繫統研究瞭等離子體處理對基片錶麵狀態的影響.結果錶明,等離子體處理可以濺射去除加工變質層,降低錶麵粗糙度,提高基片錶麵潔淨度和錶麵能.優化後的參量證實,經等離子處理的基片比未經等離子體處理的基片鍍膜後損耗平均降低34.2 ppm,併且顯示齣良好的一緻性.
통과대사빈공솔、반응실압강화처리시간등삼량진행실험,계통연구료등리자체처리대기편표면상태적영향.결과표명,등리자체처리가이천사거제가공변질층,강저표면조조도,제고기편표면길정도화표면능.우화후적삼량증실,경등리자처리적기편비미경등리자체처리적기편도막후손모평균강저34.2 ppm,병차현시출량호적일치성.
