中国科学E辑
中國科學E輯
중국과학E집
SCIENCE IN CHINA (SERIES E)
2003年
11期
961-968
,共8页
李明华%于广华%朱逢吾%何珂%赖武彦
李明華%于廣華%硃逢吾%何珂%賴武彥
리명화%우엄화%주봉오%하가%뢰무언
NiFe/FeMn 非磁隔离层 交换耦合场Hex 晶格匹配 X射线衍射(XRD)
NiFe/FeMn 非磁隔離層 交換耦閤場Hex 晶格匹配 X射線衍射(XRD)
NiFe/FeMn 비자격리층 교환우합장Hex 정격필배 X사선연사(XRD)
采用磁控溅射方法制备了Ta/NiFe/非磁金属隔离层/FeMn多层膜,研究了交换耦合场Hex相对于非磁金属隔离层厚度的变化关系.实验结果表明: 随非磁金属隔离层厚度的增加,以Bi和Ag为隔离层的Hex薄膜急剧下降,以Cu为隔离层的薄膜的Hex下降较缓慢.对Cu而言,它的晶体结构与NiFe层晶体结构相同且晶格常数相近,Cu层以及FeMn层都可以相继外延生长,FeMn层的(111)织构不会受到破坏,因此,Hex随Cu沉积厚度增加缓慢下降.对Ag而言,虽然它的晶体结构与NiFe层晶体结构相同,但晶格常数相差较大,Ag层以及FeMn层都不可能外延生长,FeMn层的织构将会受到破坏,Hex随Ag沉积厚度增加迅速下降.对Bi而言,不仅它的晶体结构与NiFe层的不同,而且晶格常数相差也较大,同样,Bi层以及FeMn层也不可能外延生长,FeMn层的织构也会受到破坏,因此,Hex也随Bi沉积厚度增加迅速下降.但是,X射线光电子能谱研究表明:极少量的表面活化原子Bi沉积在NiFe/FeMn界面时,会上浮到FeMn层表面,因而Hex下降很少.
採用磁控濺射方法製備瞭Ta/NiFe/非磁金屬隔離層/FeMn多層膜,研究瞭交換耦閤場Hex相對于非磁金屬隔離層厚度的變化關繫.實驗結果錶明: 隨非磁金屬隔離層厚度的增加,以Bi和Ag為隔離層的Hex薄膜急劇下降,以Cu為隔離層的薄膜的Hex下降較緩慢.對Cu而言,它的晶體結構與NiFe層晶體結構相同且晶格常數相近,Cu層以及FeMn層都可以相繼外延生長,FeMn層的(111)織構不會受到破壞,因此,Hex隨Cu沉積厚度增加緩慢下降.對Ag而言,雖然它的晶體結構與NiFe層晶體結構相同,但晶格常數相差較大,Ag層以及FeMn層都不可能外延生長,FeMn層的織構將會受到破壞,Hex隨Ag沉積厚度增加迅速下降.對Bi而言,不僅它的晶體結構與NiFe層的不同,而且晶格常數相差也較大,同樣,Bi層以及FeMn層也不可能外延生長,FeMn層的織構也會受到破壞,因此,Hex也隨Bi沉積厚度增加迅速下降.但是,X射線光電子能譜研究錶明:極少量的錶麵活化原子Bi沉積在NiFe/FeMn界麵時,會上浮到FeMn層錶麵,因而Hex下降很少.
채용자공천사방법제비료Ta/NiFe/비자금속격리층/FeMn다층막,연구료교환우합장Hex상대우비자금속격리층후도적변화관계.실험결과표명: 수비자금속격리층후도적증가,이Bi화Ag위격리층적Hex박막급극하강,이Cu위격리층적박막적Hex하강교완만.대Cu이언,타적정체결구여NiFe층정체결구상동차정격상수상근,Cu층이급FeMn층도가이상계외연생장,FeMn층적(111)직구불회수도파배,인차,Hex수Cu침적후도증가완만하강.대Ag이언,수연타적정체결구여NiFe층정체결구상동,단정격상수상차교대,Ag층이급FeMn층도불가능외연생장,FeMn층적직구장회수도파배,Hex수Ag침적후도증가신속하강.대Bi이언,불부타적정체결구여NiFe층적불동,이차정격상수상차야교대,동양,Bi층이급FeMn층야불가능외연생장,FeMn층적직구야회수도파배,인차,Hex야수Bi침적후도증가신속하강.단시,X사선광전자능보연구표명:겁소량적표면활화원자Bi침적재NiFe/FeMn계면시,회상부도FeMn층표면,인이Hex하강흔소.
