电镀与涂饰
電鍍與塗飾
전도여도식
ELECTROPLATING & FINISHING
2007年
8期
10-13
,共4页
岑树琼%周颖华%钟慧%楼莹%邵玉田%牛振江%李则林
岑樹瓊%週穎華%鐘慧%樓瑩%邵玉田%牛振江%李則林
잠수경%주영화%종혜%루형%소옥전%우진강%리칙림
Ni-Ru合金%电沉积%表面形貌%微观结构%极化曲线%析氢%电催化
Ni-Ru閤金%電沉積%錶麵形貌%微觀結構%極化麯線%析氫%電催化
Ni-Ru합금%전침적%표면형모%미관결구%겁화곡선%석경%전최화
在(25±2)℃下,从含有50 g/L RuCl3·nH2O、30.0 g/L乙酸钠、30.0 g/L二水合柠檬酸钠和15.0～50.0 g/L NiSO4·6H2O的溶液(pH 3.0)中,以1O～90 mA/cm2在铜基底上电沉积制备了Ru含量为5%～70%(原子分数)的Ni-Ru合金.采用X射线衍射(XRD)、扫描电子显微镜(SEM)和电化学方法,研究了镀液中NiSO4质量浓度和电流密度对沉积层组成、表面形貌、结构及电催化析氢活性的影响.结果表明,溶液中Ru优先析出并能促进Ni的沉积,镀层中Ru含量随着镀液中Ni2+质量浓度的提高而降低,低电流密度有利于获得Ru含量高的镀层.随着镀液中Ni2+质量浓度的降低或电流密度的提高,镀层表面形貌由较为平整、均匀变为多孔的颗粒状.镀层主要呈现面心立方Ni结构特征,且晶粒尺寸随镀层中Ru含量的增加而变小.Ni-Ru合金电极的析氢活性优于纯Ni,当镀层的Ru原子分数超过15%时,其析氢活性与纯Ru电极接近.
在(25±2)℃下,從含有50 g/L RuCl3·nH2O、30.0 g/L乙痠鈉、30.0 g/L二水閤檸檬痠鈉和15.0～50.0 g/L NiSO4·6H2O的溶液(pH 3.0)中,以1O～90 mA/cm2在銅基底上電沉積製備瞭Ru含量為5%～70%(原子分數)的Ni-Ru閤金.採用X射線衍射(XRD)、掃描電子顯微鏡(SEM)和電化學方法,研究瞭鍍液中NiSO4質量濃度和電流密度對沉積層組成、錶麵形貌、結構及電催化析氫活性的影響.結果錶明,溶液中Ru優先析齣併能促進Ni的沉積,鍍層中Ru含量隨著鍍液中Ni2+質量濃度的提高而降低,低電流密度有利于穫得Ru含量高的鍍層.隨著鍍液中Ni2+質量濃度的降低或電流密度的提高,鍍層錶麵形貌由較為平整、均勻變為多孔的顆粒狀.鍍層主要呈現麵心立方Ni結構特徵,且晶粒呎吋隨鍍層中Ru含量的增加而變小.Ni-Ru閤金電極的析氫活性優于純Ni,噹鍍層的Ru原子分數超過15%時,其析氫活性與純Ru電極接近.
재(25±2)℃하,종함유50 g/L RuCl3·nH2O、30.0 g/L을산납、30.0 g/L이수합저몽산납화15.0～50.0 g/L NiSO4·6H2O적용액(pH 3.0)중,이1O～90 mA/cm2재동기저상전침적제비료Ru함량위5%～70%(원자분수)적Ni-Ru합금.채용X사선연사(XRD)、소묘전자현미경(SEM)화전화학방법,연구료도액중NiSO4질량농도화전류밀도대침적층조성、표면형모、결구급전최화석경활성적영향.결과표명,용액중Ru우선석출병능촉진Ni적침적,도층중Ru함량수착도액중Ni2+질량농도적제고이강저,저전류밀도유리우획득Ru함량고적도층.수착도액중Ni2+질량농도적강저혹전류밀도적제고,도층표면형모유교위평정、균균변위다공적과립상.도층주요정현면심립방Ni결구특정,차정립척촌수도층중Ru함량적증가이변소.Ni-Ru합금전겁적석경활성우우순Ni,당도층적Ru원자분수초과15%시,기석경활성여순Ru전겁접근.
