电镀与涂饰
電鍍與塗飾
전도여도식
ELECTROPLATING & FINISHING
2000年
2期
6-9
,共4页
化学镀%钴-镍-磷%沉积速度
化學鍍%鈷-鎳-燐%沉積速度
화학도%고-얼-린%침적속도
化学镀钴-镍-磷合金镀层具有良好的磁学性能,正日益受到人们的青睐.由于沉积速度往往对镀层性能产生很大影响,在此重点研究了影响化学镀钴-镍-磷合金镀层沉积速度的各因素.结果表明:提高镀液中金属离子总浓度及镍盐所占的比例,在pH为8～10范围内加入适量的稳定剂及采用活性强的基材有利于化学镀钴-镍-磷合金镀层沉积速度的提高.
化學鍍鈷-鎳-燐閤金鍍層具有良好的磁學性能,正日益受到人們的青睞.由于沉積速度往往對鍍層性能產生很大影響,在此重點研究瞭影響化學鍍鈷-鎳-燐閤金鍍層沉積速度的各因素.結果錶明:提高鍍液中金屬離子總濃度及鎳鹽所佔的比例,在pH為8～10範圍內加入適量的穩定劑及採用活性彊的基材有利于化學鍍鈷-鎳-燐閤金鍍層沉積速度的提高.
화학도고-얼-린합금도층구유량호적자학성능,정일익수도인문적청래.유우침적속도왕왕대도층성능산생흔대영향,재차중점연구료영향화학도고-얼-린합금도층침적속도적각인소.결과표명:제고도액중금속리자총농도급얼염소점적비례,재pH위8～10범위내가입괄량적은정제급채용활성강적기재유리우화학도고-얼-린합금도층침적속도적제고.
