压电与声光
壓電與聲光
압전여성광
PIEZOELECTRICS & ACOUSTOOPTICS
2007年
2期
230-232,236
,共4页
多孔硅%双槽电化学腐蚀法%腐蚀条件%掺杂浓度%孔隙率
多孔硅%雙槽電化學腐蝕法%腐蝕條件%摻雜濃度%孔隙率
다공규%쌍조전화학부식법%부식조건%참잡농도%공극솔
采用双槽电化学腐蚀法制备多孔硅,主要研究了腐蚀条件及硅基体掺杂浓度对多孔硅孔隙率的影响,并且结合原子力显微镜(AFM)、扫描电子显微镜(SEM)技术对所制备的多孔硅的表面形貌和断面形貌进行了分析表征.研究发现,通过合理的选择工艺参数,可以制备具有特定孔隙率的多孔硅薄膜,可广泛的应用于微电子机械系统(MEMS)技术中.
採用雙槽電化學腐蝕法製備多孔硅,主要研究瞭腐蝕條件及硅基體摻雜濃度對多孔硅孔隙率的影響,併且結閤原子力顯微鏡(AFM)、掃描電子顯微鏡(SEM)技術對所製備的多孔硅的錶麵形貌和斷麵形貌進行瞭分析錶徵.研究髮現,通過閤理的選擇工藝參數,可以製備具有特定孔隙率的多孔硅薄膜,可廣汎的應用于微電子機械繫統(MEMS)技術中.
채용쌍조전화학부식법제비다공규,주요연구료부식조건급규기체참잡농도대다공규공극솔적영향,병차결합원자력현미경(AFM)、소묘전자현미경(SEM)기술대소제비적다공규적표면형모화단면형모진행료분석표정.연구발현,통과합리적선택공예삼수,가이제비구유특정공극솔적다공규박막,가엄범적응용우미전자궤계계통(MEMS)기술중.
