中国科技成果
中國科技成果
중국과기성과
CHINA SCIENCE AND TECHNOLOGY ACHIEVEMENTS
2009年
15期
42-44
,共3页
卫红%王小辉%唐振方%曹一鸣%刘志宇
衛紅%王小輝%唐振方%曹一鳴%劉誌宇
위홍%왕소휘%당진방%조일명%류지우
射频磁控溅射%VOz薄膜%制备工艺
射頻磁控濺射%VOz薄膜%製備工藝
사빈자공천사%VOz박막%제비공예
采用射频磁控溅射沉积方法,在加热衬底上溅射制备高价态的五氧化二钒(V2O5)薄膜,再结合气氛退火工艺制备VO2薄膜.系统分析了不同溅射工艺参数和退火工艺参数对VO2薄膜结构与光电性能的影响,得到制备VO2薄膜的最佳工艺参数.
採用射頻磁控濺射沉積方法,在加熱襯底上濺射製備高價態的五氧化二釩(V2O5)薄膜,再結閤氣氛退火工藝製備VO2薄膜.繫統分析瞭不同濺射工藝參數和退火工藝參數對VO2薄膜結構與光電性能的影響,得到製備VO2薄膜的最佳工藝參數.
채용사빈자공천사침적방법,재가열츤저상천사제비고개태적오양화이범(V2O5)박막,재결합기분퇴화공예제비VO2박막.계통분석료불동천사공예삼수화퇴화공예삼수대VO2박막결구여광전성능적영향,득도제비VO2박막적최가공예삼수.
